[发明专利]制造微结构的方法及该微结构有效

专利信息
申请号: 201010589803.7 申请日: 2010-12-09
公开(公告)号: CN102566285A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 邱大任;洪维泽;林士越;陈秋芳;陈姿颖 申请(专利权)人: 远东新世纪股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B81B7/04;G03F7/004;G03F7/027
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 制造 微结构 方法
【权利要求书】:

1.一种制造微结构的方法,其特征在于:

在一基材上形成一光固化材料层,该光固化材料层是由一可光固化组成物所构成,该可光固化组成物包含至少一种具有多个官能团的可光固化化合物,且该可光固化化合物具有70-700的官能团当量;

提供一图案化遮蔽层,以局部地遮蔽该基材与该光固化材料层的组合;

使一第一光源通过该图案化遮蔽层,用以图案化地曝光该光固化材料层,使得该光固化材料层中的曝光区产生固化反应,借此使得该光固化材料层的未曝光区中的该可光固化组成物朝该曝光区流动,进而使得该光固化材料层表面形成一具有一凸状固化区与一凹状未固化区的图案化微结构;

移除该图案化遮蔽层;以及

以一第二光源照射,以进一步固化该微结构,使该光固化材料层的凹状未固化区中的可光固化组成物固化,以使该凹状未固化区形成一凹状固化区。

2.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该光固化材料层图案化地被曝光时,所使用的该第一光源为紫外光、可见光、电子束或X-射线。

3.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该第二光源为紫外光、可见光、电子束或X-射线。

4.如权利要求2所述的制造微结构的方法,其特征在于:该第一光源为紫外光且其照射剂量为不低于70mJ/cm2

5.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该可光固化化合物的官能团当量为80-600。

6.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该可光固化化合物的官能团当量为85-400。

7.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该可光固化组成物中进一步包含一光起始剂。

8.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该光固化材料层是借由将一可光固化浆料涂布于该基材上所形成。

9.如权利要求8所述的制造微结构的方法,其特征在于:该可光固化浆料包含该可光固化组成物及一溶剂。

10.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该官能团是选自于烯基与环氧基所组成的族群。

11.如权利要求7所述的制造微结构的方法,其特征在于:该光起始剂是择自乙烯基苯酮类、二苯甲酮衍生物、米希勒酮、苯炔、苯甲基衍生物、苯偶姻衍生物、苯偶姻甲醚类、α-酰氧基酯、噻吨酮类、及蒽醌类所组成的族群。

12.如权利要求9所述的制造微结构的方法,其特征在于:该溶剂是择自丙酮、乙腈、氯仿、氯苯酚、环己烷、环己酮、环戊酮、二氯甲烷、乙酸二乙酯、碳酸二甲酯、乙醇、乙酸乙酯、N,N-二甲基乙酰胺、1,2-丙二醇、2-己酮、甲醇、乙酸甲酯、乙酸丁酯、甲苯及四氢呋喃所组成的族群。

13.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该凸状固化区与该凹状固化区的高度落差值不低于0.05μm。

14.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该凸状固化区与该凹状固化区的高度落差值为0.15-5μm。

15.如权利要求1所述的制造微结构的方法,其特征在于:该凸状固化区与该凹状固化区的高度落差值为0.2-4μm。

16.一种表面具有凸状固化区与凹状固化区的微结构,其特征在于:该微结构是如权利要求1所述的方法所制得。

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