[发明专利]一种降低玻璃表面光反射的涂覆材料无效

专利信息
申请号: 201010581519.5 申请日: 2010-12-01
公开(公告)号: CN102485807A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 苏晓燕;苏怡;杨耀武 申请(专利权)人: 常熟卓辉光电科技有限公司
主分类号: C09D1/00 分类号: C09D1/00;C09D7/12;C09D5/00;C03C17/23
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 玻璃 表面光 反射 材料
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种涂覆材料,特别是一种降低玻璃表面光反射的涂覆材料。

背景技术

目前广泛应用的灯具均采用玻璃作为透光的介质,普通玻璃的的透光率最高只能达到92%,而较低的透光率严重影响灯具的光传播。

玻璃的折射率在1.5左右,降低玻璃的光反射,便可以提高玻璃的透光率。玻璃制作行业在制作灯罩时,一般是尽量降低玻璃中杂质的含量,尤其是玻璃中的铁含量,以降低玻璃本体对光线的吸收,而降低玻璃本体的杂质会大幅度增加玻璃的生产成本和制造难度。

研究人员发现,采用溶胶凝胶法制造多孔海绵状的SiO2减反射膜,可有效降低膜层的折射率,但上述SiO2减反射膜较多的孔隙率影响到膜层的抗老化性能。

发明内容

本发明提供一种降低玻璃表面光反射的涂覆材料,其可使玻璃的表面光反射率降低,提高灯具的光传播。

本发明的技术方案是:一种降低玻璃表面光反射的涂覆材料,该涂覆材料包括组分正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸和氨水,以及助剂正硅酸乙酯、P123、Tritonx-100和六亚甲基亚胺,上述组分正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸和氨水的反应摩尔比为1∶(10~40)∶8∶0.05∶0.1;上述助剂正硅酸乙酯、P123、Tritonx-100和六亚甲基亚胺添加质量比为20∶(1.2~1.8)∶(0.4~0.9)∶(0.3~0.75)。

所述正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸和氨水的反应摩尔比为1∶20∶8∶0.05∶0.1;上述助剂正硅酸乙酯、P123、Tritonx-100和六亚甲基亚胺添加质量比为20∶1.5∶0.75∶0.5。

涂覆膜通过涂覆设备涂覆在玻璃表面后形成短柱状结构能与玻璃表面垂直排料,这样既保证了膜层较低的折射率,又能有效保证膜层的抗老化性能。上述形成的柱状结构的顶端呈半球形,这就使得材料具有折射率的梯度变化,从而更有利于玻璃的减反射效果。

本发明的涂覆材料涂覆在玻璃表面能形成100nm左右的膜,膜层由呈现有一定规律的垂直排列的柱状突起组成,柱的顶部呈半球形,使得玻璃表面涂一层膜就能使玻璃表面的折射率呈现梯度变化,从而使表面反射率能降低2%以上。

具体实施方式

将一定量的正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸、氨水混合,磁力搅拌24小时,添加一定量的复合模板剂P123、Tritonx-100和六亚甲基亚胺,再磁力搅拌24小时,回流去除多于的氨水,静置72小时后使用。

实施例1

将摩尔比分别为1∶10∶8∶0.05∶0.1的正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸、氨水混合,搅拌24小时,添加12克P123、8克Tritonx-100和6克六亚甲基亚胺,搅拌24小时,回流5小时后静置72小时,制成涂覆材料。

上述材料在玻璃表面均匀涂覆,在100℃的烘箱中干燥4小时,再加热到400℃保持2小时,所得膜层的减反射率为2.2%,膜层的强度和抗老化性能良好。

实施例2

将摩尔比分别为1∶40∶8∶0.05∶0.1的正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸、氨水混合,搅拌24小时,添加15克P123、18克Tritonx-100和10克六亚甲基亚胺,搅拌24小时,回流5小时后静置72小时,制成涂覆溶液。

上述材料在玻璃表面均匀涂覆,在100℃的烘箱中干燥4小时,再加热到400℃保持2小时,所得膜层的减反射率为2.4%,膜层的强度和抗老化性能良好。

实施例3

将摩尔比分别为1∶32∶8∶0.05∶0.1的正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸、氨水混合,搅拌24小时,添加18克P123、10克Tritonx-100和15克六亚甲基亚胺,搅拌24小时,回流5小时后静置72小时,制成涂覆溶液。

上述材料在玻璃表面均匀涂覆,在100℃的烘箱中干燥4小时,再加热到400℃保持2小时,所得膜层的减反射率为2.8%,膜层的强度和抗老化性能良好。

实施例4

将摩尔比分别为1∶20∶8∶0.05∶0.1的正硅酸乙酯、乙醇、水、硝酸、氨水混合,搅拌24小时,添加15克P123、7.5克Tritonx-100和5克六亚甲基亚胺,搅拌24小时,回流5小时后静置72小时,制成涂覆溶液。

上述材料在玻璃表面均匀涂覆,在100℃的烘箱中干燥4小时,再加热到400℃保持2小时,所得膜层的减反射率为2.5%,膜层的强度和抗老化性能良好。

上述实施例不以任何方式限制本发明,凡是采用等同替换或等效变换的方式获得的技术方案均落在本发明的保护范围内。

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