[发明专利]使用感测阵列的多触摸和邻近对象感测设备有效
| 申请号: | 201010548490.0 | 申请日: | 2010-11-15 |
| 公开(公告)号: | CN102063226A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
| 发明(设计)人: | 李权柱;崔昌圭;韩在濬;朴斗植 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
| 主分类号: | G06F3/042 | 分类号: | G06F3/042 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 郭鸿禧;李娜娜 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 使用 阵列 触摸 邻近 对象 设备 | ||
1.一种感测设备,所述感测设备包括:
漫射器,不可见光被投射到所述漫射器;
可见光光源,布置在漫射器之下,用于将可见光发射到漫射器;
感测阵列,布置在漫射器之下,用于感测投射到漫射器的不可见光。
2.如权利要求1所述的感测设备,还包括:
不可见光光源,布置在漫射器之上,用于发射不可见光,其中,不可见光用于感测由对象产生的触摸图像或目标图像。
3.如权利要求2所述的感测设备,还包括:
导光件,布置在漫射器之上,用于全内反射从不可见光光源发射的不可见光,
其中,不可见光光源将不可见光发射到导光件的内部或将不可见光发射到对象。
4.如权利要求2所述的感测设备,其中,当对象布置在漫射器之上或与漫射器的上侧分离预定距离时,感测阵列感测被对象反射的不可见光。
5.如权利要求3所述的感测设备,其中,从不可见光光源发射的不可见光在导光件中被全内反射,感测阵列感测全内反射被对象遮掩的位置。
6.如权利要求2所述的感测设备,其中,不可见光光源与漫射器分离预定距离,并将不可见光发射到漫射器以感测触摸图像。
7.如权利要求6所述的感测设备,其中,不可见光光源发射与漫射器正交的不可见光,或者按预定角度将不可见光发射到漫射器。
8.如权利要求1所述的感测设备,其中,可见光光源布置在漫射器之下并与漫射器正交,并将可见光直接发射到漫射器。
9.如权利要求1所述的感测设备,其中,可见光光源布置在漫射器的边缘之下,并通过波导反射可见光来将可见光发射到漫射器。
10.如权利要求1所述的感测设备,其中,感测阵列检测不可见光光源的坐标,通过感测投射到漫射器的不可见光来识别不可见光光源的坐标。
11.如权利要求1所述的感测设备,其中,感测阵列检测在漫射器内部发生的阴影的位置,当不可见光被对象阻挡时发生所述阴影。
12.如权利要求1所述的感测设备,其中,基于通过感测阵列感测的图像数据开启或关闭可见光光源,或者可见光光源基于图像数据控制光量。
13.一种感测设备,所述感测设备包括:
漫射器,不可见光投射到所述漫射器;
感测阵列,布置在漫射器之下,用于感测投射到漫射器的不可见光。
14.如权利要求13所述的感测设备,还包括:
不可见光光源,布置在漫射器之上,以发射用于感测触摸图像或目标图像的不可见光,由对象产生所述触摸图像或所述目标图像。
15.如权利要求14所述的感测设备,其中,不可见光光源将不可见光发射到导光件的内部以进行全内反射,并且当从不可见光光源发射的不可见光在导光件中全内反射时,感测阵列感测全内反射被对象阻止的位置。
16.如权利要求15所述的感测设备,其中,对象布置在导光件之上,或者对象与导光件的上侧分离预定距离,感测阵列感测被对象反射的不可见光。
17.如权利要求14所述的感测设备,其中,不可见光光源与漫射器分离预定距离,并将用于感测触摸图像的不可见光发射到漫射器。
18.如权利要求14所述的感测设备,其中,不可见光光源将不可见光正交地发射到漫射器,或者关于漫射器按预定角度发射不可见光。
19.如权利要求14所述的感测设备,还包括:
可见光光源,通过漫射器发射平面光。
20.如权利要求19所述的感测设备,其中,可见光光源布置在漫射器之下,并向漫射器直接地发射可见光。
21.如权利要求18所述的感测设备,还包括:第二不可见光光源,布置在漫射器之上并位于导光件的边缘附近,从而第二不可见光光源将不可见光发射到导光件的内部以进行全内反射。
22.如权利要求19所述的感测设备,还包括:波导,布置于漫射器之下,其中,可见光光源布置在波导的边缘,并通过波导反射可见光来将可见光发射到漫射器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010548490.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在电解过程中排列电极的方法和电解系统
- 下一篇:超硬合金





