[发明专利]磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法

权利要求书

1.一种磁控源，其特征在于，包括：

靶材；

磁控管，所述磁控管位于所述靶材上方；和

扫描机构，所述扫描机构与磁控管相连以控制所述磁控管围绕所述靶材的中心转动，且所述扫描机构以预设步长阶段性地调整所述磁控管的转动半径，其中，在每个阶段所述扫描机构控制所述磁控管的转动圈数和/或转速以在所述每个阶段对所述靶材刻蚀至预设深度。

2.如权利要求1所述的磁控源，其特征在于，所述扫描机构包括：

第一电机；

第二电机；

第一连杆组件，所述第一电机控制所述第一连杆组件转动，所述第一连杆组件与所述磁控管相连，且所述第一连杆组件的长度可伸缩；

第二连杆组件，所述第二电机控制所述第二连杆组件转动，所述第二连杆组件与所述磁控管相连，且所述第二连杆组件的长度可伸缩；和

控制器，所述控制器与所述第一电机和第二电机相连以分别控制所述第一电机和第二电机的转速，且通过对所述第一电机和第二电机之间的加速度差调整所述磁控管的转动半径。

3.如权利要求2所述的磁控源，其特征在于，其中，

所述第一电机和第二电机分别通过同轴心的内轴和外轴与所述第一连杆组件和第二连杆组件相连，且所述内轴和所述外轴可独立地转动。

4.如权利要求3所述的磁控源，其特征在于，其中，

所述内轴的长度大于所述外轴的长度以使所述第一连杆组件的高度低于所述第二连杆组件的高度，且所述第一连杆组件和第二连杆组件向下倾斜以使所述磁控管的高度低于所述第一连杆组件的高度。

5.如权利要求3所述的磁控源，其特征在于，其中，

所述第一连杆组件包括：

第一连杆，所述第一连杆与所述内轴相连；

第二连杆，所述第二连杆的一端与所述第一连杆可枢转地相连，且所述第二连杆的另一端与所述磁控管相连；

所述第二连杆组件包括：

第三连杆，所述第三连杆与所述外轴相连；

第四连杆，所述第四连杆的一端与所述第三连杆可枢转地相连，且所述第四连杆的另一端与所述磁控管相连。

6.如权利要求5所述的磁控源，其特征在于，其中，

当所述控制器增加所述磁控管的转动半径时，所述控制器根据所述预设步长控制所述第一电机和所述第二电机的转速以减小所述第一连杆和第三连杆之间的夹角；

或者，当所述控制器减小所述磁控管的转动半径时，所述控制器根据所述预设步长控制所述第一电机和所述第二电机的转速以增大所述第一连杆和第三连杆之间的夹角。

7.如权利要求3所述的磁控源，其特征在于，所述扫描机构还包括：

配重块，所述配重块的重量与所述磁控管的重量相同；

第三连杆组件，所述第三连杆组件与所述内轴相连，所述第三连杆组件与所述第一连杆组件的结构相同，且所述第三连杆组件与所述配重块相连；和

第四连杆组件，所述第四连杆组件与所述外轴相连，所述第四连杆组件与所述第二连杆组件的结构相同，且所述第四连杆组件与所述配重块相连。

8.如权利要求1-7任一项所述的磁控源，其特征在于，所述磁控管为肾形磁控管。

9.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：

腔体；

抽气口，通过所述抽气口对所述腔体抽真空；

静电卡盘，所述静电卡盘设置在所述腔体中用于承载晶片；

磁控源，所述磁控源为根据权利要求1-8任一项所述的磁控源；和

隔离部件；

其中，所述磁控源的靶材设置在所述腔体上部，且所述隔离部件设置在靶材之上以与所述靶材限定出适于容纳去离子水的密封腔室。