[发明专利]彩膜基板及其制造方法、液晶显示器无效

专利信息
申请号: 201010537378.7 申请日: 2010-11-05
公开(公告)号: CN102466922A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 芮汉洙;朴银石;陈轶 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制造 方法 液晶显示器
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示器技术,特别涉及一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示器。

背景技术

液晶显示器通常由阵列基板和彩膜基板对盒而成,其中,阵列基板和彩膜基板之间通过隔垫物支撑盒厚,该隔垫物可以制作在彩膜基板上。

图1为现有技术彩膜基板的截面示意图,图2为现有技术彩膜基板制造方法的流程示意图。结合图1和图2所示,在制造彩膜基板时,首先于步骤101中,在衬底基板11上制作黑矩阵12和彩色树脂层13,其中,彩色树脂层13包括多个R、G、B树脂单元。接着,在步骤102中,在黑矩阵12和彩色树脂层13的上方溅射一层透明导电膜层14(可以为ITO)。然后,在步骤103中,可以通过光阻法在透明导电膜层14上设置分散的多个隔垫物15,形成隔垫物层。最后,在步骤104中形成取向层16,该取向层16覆盖在整个透明导电膜层14和隔垫物层的上方,可以通过取向层涂覆工艺(PI Coating)和取向层摩擦工艺(PI Rubbing)制作。

但是,上述现有技术的彩膜基板存在如下技术缺陷:由于在取向层制作工艺之前,隔垫物15已经制作在彩膜基板的表面,隔垫物15的高度影响将使得整个彩膜基板表面非常不平坦,严重影响到取向层的涂覆和摩擦质量,而取向层的质量不能保证将直接影响液晶显示器的显示性能。

发明内容

本发明的目的是提供一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示器,以解决隔垫物的设置影响取向层形成质量的问题,降低隔垫物对取向层形成质量的影响,提高液晶显示器的显示性能。

本发明提供一种彩膜基板,包括:

衬底基板;

黑矩阵和彩色树脂层,形成于所述衬底基板之上;

透明导电膜层,形成于所述黑矩阵和彩色树脂层之上;

取向层,形成于所述透明导电膜层之上;

隔垫物,形成于所述取向层之上。

本发明提供一种彩膜基板制造方法,包括:

在衬底基板上形成黑矩阵和彩色树脂层;

在所述黑矩阵和彩色树脂层之上形成透明导电膜层;

在所述透明导电膜层之上形成取向层和隔垫物,所述隔垫物形成于取向层的上方。

本发明提供一种液晶显示器,包括阵列基板和本发明所提供的彩膜基板,所述阵列基板和彩膜基板对盒,其间填充有液晶。

本发明的彩膜基板及其制造方法、液晶显示器,通过将隔垫物形成工艺放在取向膜涂覆工艺之后完成,改善了取向层涂覆和取向层摩擦工艺时的彩膜基板表面的平坦型,降低了隔垫物对取向层制作工艺的影响。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术彩膜基板的截面示意图;

图2为现有技术彩膜基板制造方法的流程示意图;

图3为本发明彩膜基板制造方法实施例一的流程示意图;

图4为本发明彩膜基板制造方法实施例二的流程示意图;

图5为本发明彩膜基板制造方法实施例三的流程示意图;

图6为本发明彩膜基板制造方法实施例三中的黑矩阵形成结构示意图;

图7为本发明彩膜基板制造方法实施例三中的彩色树脂层形成结构示意图;

图8为本发明彩膜基板制造方法实施例三中的取向层形成结构示意图;

图9为本发明彩膜基板制造方法实施例三中的隔垫物喷射形成过程示意图;

图10为本发明彩膜基板制造方法实施例三中的隔垫物形成状态示意图;

图11为本发明彩膜基板实施例的截面示意图。

附图标记说明:

11-衬底基板;    12-黑矩阵;13-彩色树脂层;

14-透明导电膜层;15-隔垫物;16-取向层;

17-喷嘴。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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