[发明专利]彩膜基板及其制造方法、液晶显示器

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

黑矩阵和彩色树脂层，形成于所述衬底基板之上；

透明导电膜层，形成于所述黑矩阵和彩色树脂层之上；

取向层，形成于所述透明导电膜层之上；

隔垫物，形成于所述取向层之上。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物为柱状隔垫物。

3.一种彩膜基板制造方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成黑矩阵和彩色树脂层；

在所述黑矩阵和彩色树脂层之上形成透明导电膜层；

在所述透明导电膜层之上形成取向层和隔垫物，所述隔垫物形成于取向层的上方。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，在所述透明导电膜层之上形成取向层和隔垫物，所述隔垫物形成于取向层的上方，为：

在所述透明导电膜层之上形成取向层和柱状隔垫物，所述柱状隔垫物形成于取向层的上方。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述在所述透明导电膜层之上形成取向层和柱状隔垫物包括：

在所述透明导电膜层之上涂覆取向膜；

在所述取向膜上形成所述柱状隔垫物；

将所述取向膜制作形成所述取向层。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述在所述透明导电膜层之上形成取向层和柱状隔垫物包括：

在所述透明导电膜层之上涂覆取向膜；

将所述取向膜制作形成所述取向层；

在所述取向层之上形成所述柱状隔垫物。

7.根据权利要求5或6所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述将所述取向膜制作形成所述取向层为：采用摩擦法将所述取向膜制作形成所述取向层。

8.根据权利要求5或6所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述在所述取向膜上形成所述柱状隔垫物为：采用光阻法在所述取向膜上形成所述柱状隔垫物。

9.根据权利要求5或6所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述在所述取向膜上形成所述柱状隔垫物为：通过喷射设备在所述取向膜上喷射形成所述柱状隔垫物。

10.一种液晶显示器，其特征在于，包括阵列基板和权利要求1或2所述的彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板对盒，其间填充有液晶。