[发明专利]具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法及其结构有效

专利信息
申请号: 201010506843.0 申请日: 2010-10-14
公开(公告)号: CN102446041A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 范莉立 申请(专利权)人: 范莉立
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 程殿军
地址: 中国台湾桃*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 遮蔽 亮点 桥接式 电极 布设 方法 及其 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及桥接式电极布设方法与其结构,尤其涉及一种具遮蔽亮点的利用一导电对应层于导电层的一侧,以遮蔽该导电层所产生亮点的布设方法与结构。

背景技术

于现有技术中,在电容式触控面板的制程中,于基板上形成两个不同轴向的电极,并且在其中之一轴向的电极上再次形成绝缘层,用以提供另一轴向的电极透过该绝缘层上所设置的金属导线进行电连接。然而,传统上由于设置于绝缘层上的金属导线有可能因为在后续的制程中,造成该金属导线的损坏,使得无法导通,进而造成电容式触控面板制作良率的下降。

故于一些技术中,可再藉由桥接式沟槽的技术将该金属导线设置于该桥接式沟槽,其可避免该金属导线遭到损坏。然而,解决该金属导线可避免遭到损坏的疑虑后,该金属导线在组装完成该电容式触控面板后,于该触控面板产生多个亮点,如图1所示,对于显示造成了困扰。

故有必要提供一种新的结构,除可有效率的提升该电容式触控面板良率的提升外,更可提供避免该等亮点的产生。

发明内容

有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法,利用导电对应层用以遮蔽该导电层,用以达到无亮点产生的目的。

本发明的另一目的提供一种具遮蔽亮点的桥接式电极结构,设置导电对应层于该导电层的一侧,用以遮蔽该导电层所产生的亮点。

为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

一种具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法,其方法步骤包含:提供基板;形成透明导电层于该基板上,且该透明导电层具有多个图样区块彼此相邻设置;形成配向膜层于该基板上,且该配向膜层具有多个桥接式沟槽用以横跨在该等图样区块之间;形成导电层于该基板上,且该导电层具有多个电导线分别对应设置于该等桥接式沟槽上;形成导电对应层设置于该导电层的一侧,用以遮蔽该等电导线;以及形成保护层于该基板上,用以增加光学透光率与保护该基板、该透明导电层、该配向膜层与该导电层。

一种具遮蔽亮点的桥接式电极结构,用于电容式触控板,其包含基板、多个第一电极区块、多个第二电极区块、桥接绝缘单元与多个电极对应区块。其中,该等第一电极区块设置于该基板且透过第一导线进行串联电连接;该等第二电极区块设置于该基板且该等第二电极区块分别地设置于该第一导线的两侧;该桥接绝缘单元垂直地设置于该第一导线,且该桥接绝缘单元具有桥接式沟槽,而该桥接式沟槽的高度低于该桥接绝缘单元的高度;以及该等电极对应区块遮蔽该等第一电极区块及/或该等第二电极区块。其中,该等第二电极区块藉由具有第二导线的该桥接绝缘单元进行串联电连接。

一种具遮蔽亮点的桥接式电极结构,其包含基板层、透明导电层、配向膜层、导电层、导电对应层与保护层。其中,该透明导电层设置于该基板至少一侧;该配向膜层设置于该基板层的一侧;该导电层邻接设置于该配向膜层的一侧;该导电对应层设置于该导电层的一侧,用以遮蔽该导电层,以及该保护层,设置于该导电对应层的一侧。

本发明所提供的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法及其结构,具有以下优点:

与现有技术相比,本发明的具遮蔽亮点的桥接式电极的布设方法及其结构,除可有效地提高制程良率外,可再藉由导电对应层遮蔽该导电层,用以达成在电容式触控板上无任何亮点产生,且于其一实施例中,特别可导电层的光阻不剥膜(strip)的情况下,仍可达成在电容式触控板遮蔽亮点的目的。

附图说明

图1为传统电容式触控板示意图;

图2至图8为具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法的流程示意图;

图9a至图9d为具遮蔽亮点的桥接式电极结构的示意图;

图10a至图10d为具遮蔽亮点的桥接式电极结构的垂直剖面示意图。

【主要组件符号说明】

10  基板

12  第一电极区块

14  第二电极区块

16  桥接绝缘单元

18  第一导线

20  桥接式沟槽

22  电极对应区块

24  第二导线

PL  保护层

ECL 透明导电层

S   基板层

PI  配向膜层

CL  导电层

SL  导电对应层

具体实施方式

下面结合附图及本发明的实施例对本发明的电极布设方法及其结构作进一步详细的说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于范莉立,未经范莉立许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010506843.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top