[发明专利]具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法及其结构

权利要求书

1.一种具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其包含：

提供一基板；

形成一透明导电层于该基板上，且该透明导电层具有多个图样区块彼此相邻设置；

形成一配向膜层于该基板上，且该配向膜层具有多个桥接式沟槽用以横跨在该等图样区块之间；

形成一导电层于该基板上，且该导电层具有多个电导线分别对应设置于该等桥接式沟槽上；

形成一导电对应层，设置于该导电层的一侧，用以遮蔽该等电导线；以及

形成一保护层于该基板上，用以增加光学透光率与保护该基板、该透明导电层、该配向膜层与该导电层。

2.根据权利要求1所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其中该导电层的所述电导线藉由一光学补偿式光罩，配合过度曝光或者过度显影的至少其一所形成。

3.根据权利要求2所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其该配向膜层形成的步骤进一步包含：

涂覆一光阻于该基板上；

提供具有一图样的光罩或具有一半色调网点图样的一光罩，并且藉由该光罩用以将该图样或该半色调网点图样曝光于该光阻上；

显影该图样或该半色调网点图样于该光阻上，用以形成具有横跨在该等图样区块之间的该等桥接式沟槽；以及烘烤该光阻。

4.根据权利要求3所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其该导电层形成的步骤进一步包含：

溅镀一导电材料于该基板上；

涂覆一光阻于该基板上；

提供具有该光学补偿式光罩，且透过该光学补偿式光罩将对应该等电导线的一电导线图样过度曝光于该光阻上；以及

显影该电导线图样，用以形成具有彼此相邻的该等图样区块，且该电导线图样利用过度曝光与过度显影而产生。

5.根据权利要求4所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其该导电对应层形成的步骤进一步包含：

溅镀一导电材料于该基板上；

涂覆一光阻于该基板上；

提供具有该光学补偿式光罩，且透过该光学补偿式光罩形成对应该等电导线的一对应电导线图样过度曝光于该光阻上；以及

显影与剥膜该对应电导线图样，并再涂覆另一光阻并利该等电导线的光罩用以形成遮蔽该电导线图样的导电对应层图样。

6.根据权利要求4所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其该导电对应层形成的步骤进一步包含：

溅镀一导电材料于该基板上；

涂覆一有色光阻于该基板上；

提供具有该光学补偿式光罩，且透过该光学补偿式光罩形成对应该等电导线的一对应电导线图样过度曝光于该光阻上；以及

显影与不对该有色光阻进行该对应电导线图样的剥膜，用以形成遮蔽该电导线图样的导电对应层图样。

7.根据权利要求4所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其该导电对应层形成的步骤进一步包含：

透过具有对应该电导线图样的网印或光罩，涂覆该有色光阻于该电导线图样上，用以形成遮蔽该电导线图样的导电对应层图样。

8.根据权利要求5、6或7所述的具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其该保护层形成的步骤进一步包含：

涂覆一光阻、溅镀一光阻或一有机物的至少其一于该基板上；以及

烘烤该光阻或该有机物，以形成一硬式保护膜。

9.一种具遮蔽亮点的桥接式电极结构，用于一电容式触控板，其特征在于，其包含：

一基板；

多个第一电极区块，设置于该基板且透过一第一导线进行串联电连接；

多个第二电极区块，设置于该基板且该等第二电极区块分别地设置于该第一导线的两侧；

一桥接绝缘单元，垂直地设置于该第一导线，且该桥接绝缘单元具有一桥接式沟槽，而该桥接式沟槽的高度低于该桥接绝缘单元的高度；以及

多个电极对应区块，遮蔽该等第一电极区块及/或该等第二电极区块；

其中该等第二电极区块藉由具有一第二导线的该桥接绝缘单元进行串联电连接。