[发明专利]半导体器件无效

专利信息
申请号: 201010502058.8 申请日: 2010-09-30
公开(公告)号: CN102034819A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 三田惠司;玉田靖宏;高桥政男;丸山孝男 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社;三洋半导体制造株式会社
主分类号: H01L27/07 分类号: H01L27/07;H01L29/861;H01L21/822
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 梁爱荣
地址: 日本国大阪府守*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,其特征在于,具备有:

第二导电型的第一埋入层,形成于第一导电型半导体衬底;

第二导电型的第二埋入层,形成于所述第一埋入层内;

第一导电型埋入层,形成于所述第二埋入层内;

第二导电型的外延层,形成于所述第一导电型半导体衬底上;

第二导电型导电层,贯通所述外延层,并与所述第二埋入层的端部重叠而形成;

第一导电型导电层,贯通所述外延层,并与所述第一导电型埋入层的端部重叠而形成;

形成于与所述第一导电型导电层邻接的所述外延层的第二导电型接触层;

形成于所述第二导电型导电层的第二导电型接触层;

第一电极,将所述第一导电型导电层及形成于所述第二导电型导电层的所述第二导电型接触层电性连接;

第二电极,与形成于所述外延层的第二导电型接触层电性连接;以及

第一导电型的分离层,用以分离所述外延层;

通过所述第一电极将以所述第一导电型半导体衬底做为阳极并以所述第二导电型的第一埋入层做为阴极的二极管、以及以所述第一导电型导电层做为阳极并以所述第二导电型外延层做为阴极的二极管予以串联连接,而构成串联连接二极管群。

2.如权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,具有另一个串联二极管群,形成于由所述分离层所分离的其他的区域,并与所述串联连接二极管群以所述第二电极彼此电性连接。

3.如权利要求2所述的半导体器件,其特征在于,两个所述串联二极管群,通过所述第二电极彼此电性连接,并且共用所述第一导电型半导体衬底,而整体构成桥接电路。

4.如权利要求1至3中任一项权利要求所述的半导体器件,其特征在于,所述第一导电型导电层包围所述外延层。

5.如权利要求1至3中任一项权利要求所述的半导体器件,其特征在于,所述第二导电型导电层包围所述第一导电型导电层。

6.如权利要求1至3中任一项权利要求所述的半导体器件,其特征在于,所述第二导电型的第二埋入层接触于所述第一导电型埋入层的底部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社;三洋半导体制造株式会社,未经三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社;三洋半导体制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010502058.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top