[发明专利]衬底抛光设备和方法有效
| 申请号: | 201010271684.0 | 申请日: | 2007-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN101985208A | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
| 发明(设计)人: | 胜冈诚司;关本雅彦;国泽淳次;宫崎充;渡边辉行;小林贤一;粂川正行;横山俊夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B57/02;B24B41/04;B24B41/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪贵 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 衬底 抛光 设备 方法 | ||
1.一种在衬底被抛光之后通过具有多个衬底支撑件的衬底接收器从机头接收已抛光衬底的方法,所述衬底在真空吸引作用下保持在所述机头的衬底吸引表面上、压靠安装在所述抛光台上的抛光工具、且通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动被抛光,所述方法包括:
利用保持在相同垂直位置的所述衬底支撑件支撑由所述机头保持的已抛光衬底;
降低所述衬底支撑件中选择的衬底支撑件的垂直位置并释放所述机头的真空吸引以使所述衬底从所述衬底吸引表面移开,从而使所述衬底倾斜;
通过所述衬底支撑件接收所述倾斜的衬底;
降低所述衬底支撑件中其余衬底支撑件的垂直位置而与所述衬底支撑件中选择的衬底支撑件的垂直位置对齐,从而使所述衬底水平;以及
由所述衬底支撑件支撑水平的衬底。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述衬底被安装在所述衬底支撑件的相应上端上的吸盘接收。
3.一种通过将衬底压靠大于所述衬底的抛光工具的抛光表面、并使所述衬底和所述抛光工具相对彼此运动而抛光衬底表面的方法,所述方法包括:
从形成在所述抛光工具的所述抛光表面上的多个浆液出口供应浆液;以及
在所述衬底被抛光时使所述衬底的待抛光表面保持在所述抛光工具的所述抛光表面上,以覆盖所述浆液出口。
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