[发明专利]防护膜框架及光刻用防护膜

权利要求书

1.一种防护膜框架，其特征在于，防护膜框架杆的剖面是在上边与下边平行且面积为20mm²以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。

2.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中所述四边形为长方形，所述凹陷部中的至少一个为具有与所述上边平行的边的三角形。

3.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中所述四边形为长方形，所述凹陷部中的至少一个为其顶点位于所述长方形内侧的等腰三角形。

4.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中，在两侧边各具有一个所述凹陷部，且通过一侧的凹陷部的前端而与上边正交的直线横穿另一侧的凹陷部。

5.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中，所述防护膜框架杆的剖面积为1mm²～6mm²。

6.根据权利要求1所述的防护膜框架，其是由杨氏系数为1～80GPa的材料所构成。

7.根据权利要求1所述的防护膜框架，其由选自铝合金、镁合金、及聚碳酸酯树脂中的材料构成。

8.根据权利要求1所述的防护膜框架，其由铝合金构成。

9.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中，所述防护膜框架的平坦度为0μm以上20μm以下。

10.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中，所述四边形的面积为4mm²以上20mm²以下。

11.根据权利要求1所述的防护膜框架，其中，所述防护膜框架杆的剖面为，将在全宽度上具有一定厚度的上边部及下边部，经由在所述四边形的一条对角线上具有一定宽度的中间部来连接的形状。

12.一种光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于权利要求1～11中任一项所述的防护膜框架的一端面，且于另一端面设置曝光底版粘接剂。