[发明专利]碳化硅反射镜无效
| 申请号： | 201010213716.1 | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101887139A | 公开（公告）日： | 2010-11-17 |
| 发明（设计）人： | 唐惠东;蒋恒蔚;侯林燕;鞠宇飞;肖雪军;徐开胜;李龙珠;孙媛媛;刘文斌 | 申请（专利权）人： | 常州工程职业技术学院 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/10;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 213164 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 碳化硅 反射 | ||
【权利要求书】：
1.一种碳化硅反射镜，具有碳化硅反射镜面，其特征在于：在碳化硅镜面表层涂覆有表面改性物质，所述的表面改性物质为SiaCbOcNd，其中a、b、c和d为正整数，a+b+c+d＝100，a为15～30，b为8～50，c为25～60，d为0～15。
2.根据权利要求1所述的碳化硅反射镜的制备方法，其特征在于：具有以下步骤：
步骤1：将单面抛光的反应烧结碳化硅和无压烧结碳化硅衬底用溶剂清洗，洗净后放入烘箱中烘干，并装入真空腔体；
步骤2：抽真空至本底真空度后通入高纯氩气、高纯氧气和高纯氮气，在工作气压为0.5～5.0Pa、溅射功率为50～500W、溅射时间为0.5～5h下在衬底表面沉积SiaCbOcNd涂层，靶材为无压烧结碳化硅；
步骤3：将表面改性后的反应烧结碳化硅和无压烧结碳化硅抛光，抛光后表面涂覆银反射膜和防氧化膜。
3.根据权利要求2所述的碳化硅反射镜的制备方法，其特征在于：所述的步骤1中的溶剂为无水乙醇、丙酮或5wt％HF的至少一种。
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