[发明专利]一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺有效
| 申请号： | 201010207485.3 | 申请日： | 2010-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN101844793A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 庄永;邹鸿图;赵中华;钱丽花 | 申请（专利权）人： | 昆山市千灯三废净化有限公司 |
| 主分类号： | C01G3/02 | 分类号： | C01G3/02 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 顾进 |
| 地址： | 215345 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 活性 电镀 氧化铜 生产工艺 | ||
1.一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于该生产工艺包括以下步骤：
(1)在反应釜中加入酸性蚀刻废液和碱性溶液，调节溶液PH值到9-13，然后进行加热，加热至50-100℃，搅拌状态下反应30-60分钟；
(2)将反应好的物料用泵打入板框压滤机进行压滤，得到氧化铜滤饼，然后进行微波干燥，分离后的滤液进入废水处理系统；
(3)干燥后的氧化铜经粉碎机进行粉碎；
(4)粉碎后的氧化铜转移至水洗桶中进行洗涤，在搅拌状态下洗涤20-40分钟；
(5)经过离心后的氧化铜再转移到另一水桶中进行洗涤，重复步骤(4)的过程；
(6)经过两次水洗后的氧化铜经再次离心后转移至超声波洗涤槽内进行洗涤，洗涤后的氧化铜经过离心后再次进入微波干燥；
(7)将干燥后的氧化铜粉碎，然后进行真空包装，即可完成生产工艺。
2.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：所述步骤(1)中加入的酸性蚀刻废液是浓度为1-10％，占反应釜总体积30-80％的氯化铜或者硝酸铜或者硫酸铜蚀刻废液。
3.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：所述步骤(1)中加入的碱性溶液是浓度为10-50％的氢氧化钠或者氢氧化钾溶液。
4.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：步骤(2)中的微波干燥是将氧化铜滤饼均匀地涂于微波干燥设备的传送带表面，厚度约为1-10mm，传送带进料速度1-10m/min，微波功率10-60kw。
5.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：将步骤(3)中氧化铜粉碎至100-500目。
6.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：步骤(6)中的超声波洗涤时将经过两次水洗后的氧化铜经再次离心后转移至超声波洗涤槽内，加入纯净水，混合均匀后开启超声波发生装置，在2-5kw的功率下，洗涤5-20秒。
7.根据权利要求要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：将所述步骤(7)中的氧化铜粉碎至800-1000目。
8.根据权利要求要求3所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：所述加入的碱性溶液为30％的氢氧化钠或者氢氧化钾溶液。
9.根据权利要求要求5所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：将步骤(3)中氧化铜粉碎至300目。
10.根据权利要求1-9中任何一个权利要求所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：所述步骤(1)中反应釜中的溶液加热至80℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山市千灯三废净化有限公司，未经昆山市千灯三废净化有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010207485.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种银镜生产线的废银处理装置
- 下一篇：从循环流化床粉煤灰中溶出铝的方法
