[发明专利]薄膜沉积设备

权利要求书

1.一种薄膜沉积设备，包括真空箱体和位于所述箱体内部的工件架，所述工件架包括复数个等距间隔交替放置的激励电极板和接地电极板，其特征在于：所述工件架的电极板的两端分别具有布气盒，反应气体分别从所述两端的布气盒进入激励电极板和接地电极板之间的反应空间。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述工件架的两端具有喷淋板，反应气体进入所述布气盒后经所述喷淋板进入所述反应空间。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述喷淋板表面包括众多个通气孔。

4.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述两端的布气盒分别具有进气口，分别与进气管路相连。

5.根据权利要求4所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述进气口位于所述布气盒的侧部。

6.根据权利要求4所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述进气管路包括主路和支路，所述支路包括第一支路和第二支路，分别与电极板两端的布气盒相连。

7.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述主路、第一支路和第二支路分别安装有阀门，分别控制进入两端布气盒的气体的通断。

8.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述箱体具有排气口，反应后的剩余气体从所述电极板两侧流出后经所述排气口排出。