[发明专利]半导体专用设备晶片旋转台装置有效
| 申请号: | 201010195940.2 | 申请日: | 2010-06-10 |
| 公开(公告)号: | CN101894784A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
| 发明(设计)人: | 王仲康;袁立伟;王欣 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人: | 张贰群 |
| 地址: | 065201 河北省三河市*** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 专用设备 晶片 旋转 装置 | ||
技术领域
本发明涉及对半导体专用设备用晶片旋转装置技术领域。
背景技术
半导体专用设备在进行晶片加工的过程中,需要将晶片真空吸附固定以进行加工。常见的旋转装置存在一些问题,如运转不平稳、密封性不好、刚度低等。
发明内容
发明的目的是提供一种半导体专用设备晶片旋转台装置,与现有技术相比,具有结构紧凑,运转平稳、加工质量高、密封性好、使用方便、寿命长等优点。
本发明是这样实现的:一种半导体专用设备晶片旋转台装置,包括真空吸盘、转轴、电机及机械传动装置,其特征在于真空吸盘固定在转轴上端面,转轴采用一端固定一端游动支撑,通过两个角接触球轴承和一个深沟球轴承安装在在轴承套中,转轴下方与电机及机械传动装置连接,轴承套和座体相固定。
所述的转轴为阶梯轴,两个角接触球轴承两端内外圈均固定,上端内圈卡在转轴的轴肩上,上端外圈压在轴承盖的下端面上,下端内圈与隔套上端面接触,下端外圈压在轴承套的内孔端面上,轴承盖通过螺钉固定在轴承套的上端面上;深沟球轴承两端只内圈固定,上端内圈与隔套下端面接触,下端内圈由上锁母和下锁母通过转轴下端的螺纹双重锁定,端盖固定在轴承套下端面上;真空锁母压在真空吸盘的凹槽内,通过螺纹与转轴中的真空管联接,真空管的下方接有和真空装置相连的旋转接头。
所述的两个角接触球轴承之间安装有内外隔圈,深沟球轴承与锁母之间安装有内圈隔圈。
所述的上密封环固定在真空吸盘的下端面上,与下密封环相互交叉。
所述的上述真空吸盘与轴承盖之间,端盖与上锁母之间均设有径向迷宫密封。
本发明的积极效果是:能有效解决现有技术中存在的问题,与现有技术相比,具有结构紧凑,运转平稳、加工质量高、密封性好、使用方便、寿命长等优点。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例的结构示意图。
图中:1-真空吸盘、2-真空锁母、3-轴承盖、4-上密封环、5-下密封环、6-转轴、7-角接触球轴承、8-真空管、9-隔套、10-轴承套、11-深沟球轴承、12-端盖、13-上锁母、14-下锁母。
具体实施方式
下面结合较佳实施例及其附图和对本发明进一步说明,但不作为对本发明的限定。
见图1,该半导体专用设备晶片旋转台装置,包括真空吸盘1、转轴6、电机及机械传动装置,真空吸盘1固定在转轴6上端面,转轴6采用一端固定一端游动支撑,通过两个角接触球轴承7和一个深沟球轴承11安装在在轴承套10中,转轴6下方与电机及机械传动装置连接,轴承套10和座体相固定;真空锁母2压在真空吸盘1的凹槽内,通过螺纹与转轴6中的真空管8联接,真空管8的下方接有和真空装置相连的旋转接头。转轴6为阶梯轴,两个角接触球轴承7两端内外圈均固定,上端内圈卡在转轴6的轴肩上,上端外圈压在轴承盖3的下端面上,下端内圈与隔套9上端面接触,下端外圈压在轴承套10的内孔端面上,轴承盖3通过螺钉固定在轴承套10的上端面上;深沟球轴承11两端只内圈固定,上端内圈与隔套9下端面接触,下端内圈由上锁母13和下锁母14通过转轴下端的螺纹双重锁定,端盖12固定在轴承套10下端面上。两个角接触球轴承7之间安装有内外隔圈,深沟球轴承11与锁母13之间安装有内圈隔圈。上密封环4固定在真空吸盘1的下端面上,与下密封环5相互交叉。上述真空吸盘1与轴承盖3之间,端盖12与上锁母13之间均设有径向迷宫密封。
本发明专利是一种动作平稳、使用方便的晶片吸附旋转装置。轴系轴承采用一端固定一端游动支撑,增加旋转的稳定性。转动轴由一对角接触轴承和一个深沟球轴承支撑,其中,上端的角接触轴承内外圈两侧均固定,从而限制了轴的双向移动,而深沟球轴承只内圈固定,当轴伸缩时可作轴向移动,工作稳定性好,能适应高速旋转带来的温度变化。轴承的上方和下方均设计有迷宫密封,可以防止灰尘、水分和其它杂质进入轴承,提高轴承的寿命。上密封环与下密封环相互交叉,可防止冷却液进入装置内部。在多处添加迷宫密封,防止灰尘进入。装置为中空装置,中间安装有真空管,下端接旋转接头,便于真空吸附。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





