[发明专利]灰色调掩模无效
| 申请号: | 201010189553.8 | 申请日: | 2006-03-22 |
| 公开(公告)号: | CN101833236A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
| 发明(设计)人: | 佐野道明 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
| 主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 色调 | ||
1.一种用于制造液晶显示装置的灰色调掩模,其特征在于,该灰色调掩模通过在透明基板上具有半透光膜图形、以及在透光部侧空出余量区域而形成在上述半透光膜图形上的遮光膜图形,由此具有:遮光膜图形与半透光膜图形层叠而成的遮光部,除遮光部以外的形成有半透光膜的半透光部,以及既未形成半透光膜又未形成遮光膜的透光部;
该灰色调掩模具有与上述半透光膜图形的形成同时形成的、用于曝光时的对位的标记图形。
2.根据权利要求1所述的灰色调掩模,其中,
上述标记图形的形成是通过以抗蚀剂图形作为掩模来刻蚀半透光膜而进行的,该抗蚀剂图形是通过在用于形成上述半透光膜图形的描绘数据中包含标记图形而形成的。
3.根据权利要求1所述的灰色调掩模,其中,上述标记图形的形成是通过以抗蚀剂图形作为掩模来刻蚀半透光膜和遮光膜而进行的,该抗蚀剂图形是通过在用于形成上述半透光膜图形的描绘数据中包含标记图形而形成的。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





