[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，构造为将图案化的辐射束投射到支撑在基板架上的 基板的靶部，该基板架位于基板台上的一凹槽内，其包括：

液体供给系统，构造为用液体至少部分地填充投影系统的末端元件和 所述的基板和/或基板台之间的空间；

密封元件，定位于所述投影系统的末端元件之下并且围绕所述末端元 件，并且基本设置为在所述空间内容纳所述液体；

基板台位移系统，设置为相对于所述密封元件沿着预定路径移动所述 基板台，由此移动所述基板表面上的所述靶部；以及

液体蒸发和冷凝控制器，设置为通过同步蒸发或冷凝控制技术，来控 制由所述液体供给系统提供的液体的蒸发或冷凝的净能量损失速率；

其中，所述液体覆盖所述基板的局部区域，以及所述液体供给系统为 液体限制系统的一部分。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其中所述液体蒸发和冷凝控制器 包括用水流对基板架进行的基板热调节。

3.根据权利要求1所述的光刻装置，其中所述液体蒸发和冷凝控制器 包括用水流对基板台进行的基板热调节。

4.根据权利要求1、2或3任一项所述的光刻装置，其中所述液体蒸 发和冷凝控制器包括通过在基本下面的基板架中引入流体的基板台热调 节，该流体在光刻装置的正常的操作温度下冷凝。

5.根据权利要求4所述的光刻装置，其中该流体为所处压力低于液体 供给系统内液体的水。

6.根据权利要求4所述的光刻装置，其中该流体为包括酮、醚和醇中 的至少一种的气体。

7.根据权利要求4所述的光刻装置，其中该流体通过基板台内的管道 被抽吸至基板表面或从中抽出。

8.根据权利要求7所述的光刻装置，其中该流体以二相混合物的形 式被抽送。

9.根据权利要求1、2或3任一项所述的光刻装置，其中所述液体蒸 发和冷凝控制器包括通过在基板架内结合包括液体和蒸汽的容器来控制基 板台的温度。

10.根据权利要求9所述的光刻装置，其中该容器为一管道。

11.根据权利要求9所述的光刻装置，其中液体为水且蒸汽为水蒸汽。

12.根据权利要求9所述的光刻装置，其中液体为含有制冷剂的烃， 蒸汽为烃蒸汽。

13.根据权利要求14所述的光刻装置，其中液体为R134a，1，1，1，2-四氟 乙烷。

14.根据权利要求9所述的光刻装置，其中液体为含有制冷剂的烃类 的混合物，蒸汽为烃类蒸汽的混合物。

15.根据权利要求14所述的光刻装置，其中该液体为R401a。

16.根据权利要求9所述的光刻装置，其中该液体为氨水，蒸汽为氨 蒸汽。

17.根据权利要求9所述的光刻装置，包括用于加热液体的加热器。

18.根据权利要求17所述的光刻装置，其中该加热器位于液体内。

19.根据权利要求17所述的光刻装置，其中该加热器位于基板台下面。

20.根据权利要求17所述的光刻装置，还包括用于为加热器提供输入 参数的温度和/或压力传感器。

21.根据权利要求9所述的光刻装置，其中该容器没有空气和不可冷 凝的流体，且与大气封闭。

22.根据权利要求9所述的光刻装置，其中该容器包括多条尽可能接 近于基板架朝向基板的表面的管道。

23.根据权利要求9所述的光刻装置，包括在基板架朝向基板的表面 内的中空的凹座。

24.根据权利要求23所述的光刻装置，其中该中空的凹座包括容器和 基板之间的通道，以允许蒸汽从容器通至基板的底表面。