[发明专利]溅射标靶有效
| 申请号： | 201010171589.3 | 申请日： | 2005-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN101880859A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | 井上一吉;松原雅人;田中信夫;松崎滋夫;矢野公规 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种溅射标靶，其特征在于，
是以锌及锡的氧化物作为主成分的氧化物，
表示其氧化物的组成的[Zn]/([Zn]+[Sn])处于大于0.40且小于0.97的范围，其中，[Zn]表示锌原子的数量、[Sn]表示锡原子的数量。
2.一种溅射标靶，其特征在于，
是以锌及锡的氧化物作为主成分的氧化物，
表示其氧化物的组成的[Zn]/([Zn]+[Sn])处于0.5～0.9的范围，其中，[Zn]表示锌原子的数量、[Sn]表示锡原子的数量。
3.如权利要求1或者2所述的溅射标靶，其特征在于，
结晶粒子的平均直径为4μm以下、体电阻为350Ωcm以上且480Ωcm以下。
4.如权利要求1或者2所述的溅射标靶，其特征在于，
所述溅射标靶以氧化锌-氧化锡作为主成分，以30℃的四甲基氢氧化铵(TMAH)2.4％水溶液中的Ag/AgCl标准电极为基准的电动势在-0.6V以下。
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