[发明专利]排液头及其制造方法有效
| 申请号: | 201010125866.7 | 申请日: | 2010-02-25 |
| 公开(公告)号: | CN101811395A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
| 发明(设计)人: | 高桥健;小山修司;大角正纪;渡部正久 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 史雁鸣 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 排液头 及其 制造 方法 | ||
1.一种排液头的制造方法,所述排液头包括用于产生排出液体的 能量的多个能量产生元件、设有液体排出口的排出口构件、以及与所 述液体排出口连通的流路,所述制造方法包括:
准备基片,所述基片具有头区域和周缘区域,其中,在所述头区 域中,多个独立的单元相互邻接地配置,每个所述独立的单元由排列 成列并对应于一个排液头的多个能量产生元件构成,在一个芯片单元 内足以形成元件膜,所述周缘区域位于所述头区域的外侧,并且,在 该周缘区域中,不设置满足一个芯片单元的元件膜;
在所述基片的所述头区域和所述周缘区域设置有固体层;
由所述固体层,在所述头区域上形成多个对应于所述独立的单元 的所述流路的多个侧壁,并且在所述周缘区域形成围着所述多个侧壁 设置的外壁构件;
在将要成为所述流路的部分上设置树脂层,以便覆盖所述流路的 所述侧壁和所述外壁构件;
向着所述基片抛光所述树脂层,以便将所述侧壁和所述外壁构件 从所述树脂层的所述表面露出;
将所述排出口构件设置成覆盖所述树脂层和所述侧壁;
通过除去所述树脂层形成所述流路;以及,
从所述基片上除去所述周缘区域和形成在该周缘区域上的结构。
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述固体层是由 负型感光树脂构成的层。
3.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述侧壁和相互 对向的所述外壁构件大致相互平行。
4.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述树脂层是由 正型感光树脂构成的层。
5.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述头区域是矩 形区域。
6.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,通过利用划片切 割所述基片,将周缘区域从所述基片上除去。
7.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,通过分割所述基 片的所述头区域,获得单个的排液头。
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