[发明专利]单层型电子照相感光体和图像形成装置有效
| 申请号: | 201010124936.7 | 申请日: | 2010-03-01 |
| 公开(公告)号: | CN101846895A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
| 发明(设计)人: | 岩下裕子;滨崎一也;丸尾敬司 | 申请(专利权)人: | 京瓷美达株式会社 |
| 主分类号: | G03G5/14 | 分类号: | G03G5/14;G03G5/04;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 王琦;王珍仙 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 单层 电子 照相 感光 图像 形成 装置 | ||
1.一种单层型电子照相感光体,具有基体、设置在所述基体上的感光层、和配置在所述基体与所述感光层之间的中间层,其特征在于,
所述中间层含有粘结树脂和氧化钛微粒,且所述氧化钛微粒具有下述特性(a)~(c):
(a)所述氧化钛微粒的数均一次粒径在5~30nm的范围内,
(b)所述氧化钛微粒用氧化铝、二氧化硅和有机硅化合物实施表面处理,
(c)所述氧化钛微粒的表面的所述有机硅化合物的重量比例X(重量%)满足下述关系式(1),
1(重量%)≤X<4(重量%) (1)。
2.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所述感光层含有具有下述特性(A)和(B)的氧钛酞菁结晶作为电荷发生剂,
(A)在CuKα特征X射线衍射谱中,在布拉格角2θ±0.2°=27.2°具有主峰,
(B)在差示扫描量热分析中,除了随着吸附水的气化产生的峰之外,在270~400℃的范围内具有一个峰。
3.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,用所述有机硅化合物进行的表面处理在用所述氧化铝和所述二氧化硅进行的表面处理层之上实施。
4.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,相对于100重量份的所述中间层的所述粘结树脂,所述氧化钛微粒的含量在120~450重量份的范围内。
5.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所述中间层的所述粘结树脂为聚酰胺树脂。
6.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所述中间层的膜厚在0.1~50μm的范围内。
7.一种图像形成装置,其特征在于,具备:
权利要求1~6的任意一项所述的单层型电子照相感光体;
带电单元,所述带电单元使所述单层型电子照相感光体带电;
曝光单元,所述曝光单元对利用所述带电单元带电的所述单层型电子照相感光体进行曝光,从而在所述单层型电子照相感光体上形成静电潜像;
显影单元,所述显影单元用显影剂对利用所述曝光单元形成在所述单层型电子照相感光体上的所述静电潜像进行显影,从而在所述单层型电子照相感光体上形成显影剂图像;
转印单元,所述转印单元将利用所述显影单元形成在所述单层型电子照相感光体上的所述显影剂图像转印到规定的记录介质;和
清洁单元,所述清洁单元对利用所述转印单元将所述显影剂图像转印到所述规定的记录介质的所述单层型电子照相感光体进行清洁。
8.根据权利要求7所述的图像形成装置,其特征在于,所述清洁单元利用辊部件对所述单层型电子照相感光体的表面进行研磨。
9.根据权利要求7所述的图像形成装置,其特征在于,所述带电单元使所述单层型电子照相感光体的表面带电成正极性。
10.根据权利要求7所述的图像形成装置,其特征在于,所述单层型电子照相感光体的圆周速度为100mm/s以上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷美达株式会社,未经京瓷美达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010124936.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像形成装置及图像形成方法
- 下一篇:光掩模坯料、加工方法和蚀刻方法





