[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及向被处理基板上供给处理液而进行规定的处理 的基板处理技术，特别是涉及在以平流方式沿水平方向输送基 板的同时、进行液处理的基板处理装置及基板处理方法。

背景技术

近年来，在LCD(液晶显示器)制造中的抗蚀剂涂敷显影 处理系统中，作为能够有利地应对LCD用基板(例如玻璃基板) 的大型化的显影方式，普及有在沿水平方向铺设有滚轮的输送 路径上输送基板的同时、进行显影、冲洗(rinse)、烘干等一 连串的显影处理工序的、所谓的平流方式。与使基板旋转运动 的旋转器方式相比，这样的平流方式具有对大型基板的处理较 简单、不会产生雾沫且很少再次附着于基板等优点。

但是，在采用上述平流方式的显影处理工序中，在用冲洗 液(通常为纯水)替换基板上的显影液时，若从除去显影液到 供给冲洗液为止的时间过长，则存在基板表面内产生外观上的 差异(称作显影斑)这样的问题。

对于该问题，本案申请人在专利文献1中公开了在平流输 送基板的同时实施显影处理、在进行冲洗处理的冲洗部将输送 滚轮倾斜配置为山形状而成的显影单元。

图6表示专利文献1中公开的显影单元中的冲洗部200的构 造。图6(a)是冲洗部200的俯视图，图6(b)是其侧视图。

在图示的冲洗部200的构造中，设有铺设有多个输送滚轮 201的山形状的输送路径202。在前处理中，盛有显影液D的基 板G从平坦的输送路径202的区间M1依次向成为上升斜面的区 间M2中输送时，基板G上的显影液D向后方(输送方向上游) 流下。基板G在山形状的输送路径202中进入到下降区间M 3中 时，自配置在上方的沿基板宽度方向延伸的冲洗液供给喷嘴 203向基板G上供给纯水等冲洗液S。由此，在基板G通过区间 M3、M4的期间，显影液D被替换为冲洗液S。

采用这样在专利文献1中公开的冲洗部200，利用输送滚轮 201在构成为山形状的输送路径202中输送基板的同时、使基板 上的显影液D流下而回收，之后，向基板上供给冲洗液S而将显 影液D替换为冲洗液S。

专利文献1：日本特开2007-5695号公报

在上述冲洗部200中，为了使基板上的显影液D高效地流下 而提高显影液D的回收率，以山形状的输送路径202的台阶(高 度差)变大的方式配置输送滚轮201。

但是，在这样地增大山形状的输送路径202的台阶时，如 图6(a)的俯视图所示，在基板G的隆起部Ga的稍靠跟前(上 游侧)，在流下的显影液D中产生条状的部分L，存在其导致产 生显影斑这样的问题。

另外，在图6所示的构造的冲洗部200中，为了使冲洗液S 不会流到输送路径的上游侧(区间M1、M2侧)，需要将冲洗喷 嘴203自基板G的隆起部Ga向下游侧分开一定程度地配置。因 此，在基板上液体断流的区域在基板输送方向上的距离d变大 且直到供给冲洗液S会花费时间，因此，其有可能导致显影斑。

另外，作为抑制在将基板上的显影液D替换为冲洗液S时产 生斑的另一解决方法，一般考虑如图7(a)的俯视图及图7(b) 的侧视图所示地在冲洗部200中水平地构成输送路径202、利用 吹拂器204向基板上吹喷帘幕状的气流而除去显影液D的方法。

但是，在这样的构造的情况下，自吹拂器204喷出的空气 需要朝向输送路径的上游侧，因此，显影液D的液面起波纹， 受其影响存在基板G产生微小的显影斑这样的问题。

另外，利用自吹拂器204喷出的空气能够高效地除去基板 上的显影液D，但是与图6的构造同样，如图7(a)所示，在基 板上液体断流的区域在基板输送方向上的距离d变大，直到供 给冲洗液S会花费时间，因此，存在其导致产生显影斑这样的 问题。

发明内容

本发明即是鉴于上述以往技术的问题点而做成，其目的在 于提供能够高效且顺畅地进行分别回收在平流的输送流水线上 供给到被处理基板的第1处理液而将其替换为第2处理液的动 作、抑制产生显影斑的基板处理装置及基板处理方法。