[发明专利]适于与外涂敷的光刻胶一起使用的涂料组合物

权利要求书

1.一种涂敷的基材，所述基材包括：

(a)包括四元聚合物的涂料组合物层，所述四元聚合物包括至少四种不同的官能团；和

(b)位于所述涂料组合物层之上的光刻胶层，

其中光刻胶的水性碱显影也显影底涂的所述涂料组合物层。

2.如权利要求1所述的基材，其特征在于，所述涂料组合物层是不交联的。

3.如权利要求1或2所述的基材，其特征在于，树脂中的反应组分包括不同的官能团，所述官能团提供(1)溶解速率抑制性，(2)耐剥离性，(3)水性碱显影剂溶解性，和(4)光刻胶曝光辐照的吸收性(发色团)。

4.如权利要求1所述的基材，其特征在于，所述四元聚合物包括马来酰亚胺、甲基丙烯酸9-蒽甲酯、甲基丙烯酸2-羟基萘甲酯和丙烯酸叔丁酯的聚合单元。

5.一种形成光刻胶浮雕图像的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施加组合物的涂层；

(b)在所述涂料组合物层上施加光刻胶层。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在施加所述光刻胶层之前，热处理所述步骤a)中涂敷的组合物。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述施加的光刻胶暴露于成像辐照中，然后用水性碱显影剂组合物显影，所述显影剂组合物选择性除去图像中的光刻胶层和底涂的涂料组合物层，所述图像是通过成像辐照在光刻胶层中限定的图像。

8.一种与外涂敷的光刻胶层一起使用的减反射组合物，所述减反射组合物包括：

具有至少四个不同官能团的四元聚合物，所述官能团提供(1)溶解速率抑制性，(2)耐剥离性，(3)水性碱显影剂溶解性，和(4)光刻胶曝光辐照的吸收性(发色团)。

9.如权利要求8所述的组合物，其特征在于，所述四元聚合物包括马来酰亚胺、甲基丙烯酸9-蒽甲酯、甲基丙烯酸2-羟基萘甲酯和丙烯酸叔丁酯的聚合单元。