[发明专利]一种具有超宽带增透保护膜的反光器

权利要求书

1.一种具有超宽带增透保护膜的反光器，其特征在于，包括塑料基材、顺 次沉积于所述塑料基材表面的铝膜层和增透保护膜，所述铝膜层的材料为纯度 为99.99％以上的纯铝且厚度为5～10μm，所述反光器上的增透保护膜从所述反 光器基材表面的铝膜层到空气面依次具有在500nm波长下折射率高于1.8且厚 度为115-170nm的高折射率介质材料膜层、在500nm波长下折射率低于1.6且 厚度为107～142nm的低折射率介质材料膜层、在500nm波长下折射率为1.6～1.8 且厚度为5～10nm的中等折射率介质材料膜层。

2.一种具有超宽带增透保护膜的反光器，其特征在于，包括塑料基材、顺 次沉积于所述塑料基材表面的铝膜层和增透保护膜，所述铝膜层的材料为纯度 为99.99％以上的纯铝且厚度为5～10μm，所述增透保护膜具有在500nm波长下 折射率高于1.8的三层高折射率介质材料膜层、在500nm波长下折射率低于1.6 的两层低折射率介质材料膜层和在500nm波长下折射率低于1.6～1.8的一层中 等折射率介质材料膜层，其层结构从反光器基材表面到空气面依次为：第一高 折射率介质材料膜层、第一低折射率介质材料膜层、第二高折射率介质材料膜 层、第二低折射率介质材料膜层、第三高折射率介质材料膜层、中等折射率介 质材料膜层。

3.如权利要求2所述的具有超宽带增透保护膜的反光器，其特征在于，所 述第一高折射率介质材料膜层的厚度为80～110nm，第一低折射率介质材料膜层 的厚度为30～40nm，第二高折射率介质材料膜层的厚度为10～20nm，第二低折 射率介质材料膜层的厚度为60～80nm，第三高折射率介质材料膜层的厚度为 15～25nm，中等折射率介质材料膜层的厚度为5～10nm。

4.一种具有超宽带增透保护膜的反光器，其特征在于，包括塑料基材、顺 次沉积于所述塑料基材表面的铝膜层和增透保护膜，所述铝膜层的材料为纯度 为99.99％以上的纯铝且厚度为5～10μm，所述增透保护膜具有在500nm波长下 折射率高于1.8的四层高折射率介质材料膜层、在500nm波长下折射率低于1.6 的三层低折射率介质材料膜层和在500nm波长下折射率低于1.6～1.8的一层中 等折射率介质材料膜层，其层结构从反光器基材表面到空气面依次为：第一高 折射率介质材料膜层、第一低折射率介质材料膜层、第二高折射率介质材料膜 层、第二低折射率介质材料膜层、第三高折射率介质材料膜层、第三低折射率 介质材料膜层、第四高折射率介质材料膜层、中等折射率介质材料膜层。

5.如权利要求4所述的具有超宽带增透保护膜的反光器，其特征在于，所 述第一高折射率介质材料膜层的厚度为80～110nm，第一低折射率介质材料膜层 的厚度为30～40nm，第二高折射率介质材料膜层的厚度为10～20nm，第二低折 射率介质材料膜层的厚度为60～80nm，第三高折射率介质材料膜层的厚度为 15～25nm，第三低折射率介质材料膜层的厚度为17～22nm，第四高折射率介质 材料膜层的厚度为10～15nm，中等折射率介质材料膜层的厚度为5～10nm。

6.如权利要求1-5任意一项所述的具有超宽带增透保护膜的反光器，其特 征在于，所述高折射率介质材料是三硫化二砷或氧化铪。

7.如权利要求1-5任意一项所述的具有超宽带增透保护膜的反光器，其特 征在于，所述低折射率介质材料是氟化镁。

8.如权利要求1-5任意一项所述的具有超宽带增透保护膜的反光器，其特 征在于，所述中等折射率介质材料是氟化铈、氧化钇、氧化钆。