[发明专利]用于处理基板的系统及方法

权利要求书

1.一种用于处理基板的系统，包括：

涂覆单元，用于执行基板涂覆工艺；

与曝光单元相连接的预曝光/后曝光处理单元，用于对在曝光单元中处理过 的基板以及对在涂覆单元中处理过的基板执行预曝光/后曝光处理工艺；

显影单元，用于对在预曝光/后曝光处理单元中处理过的基板执行显影工 艺，

其中，所述涂覆单元、预曝光/后曝光处理单元以及显影单元的每一个都包 括：

装载端，所述装载端上放置有接收基板的容器；移送模块，用于从容器中 取出或放入基板；以及处理模块，用于在基板上执行预定工艺，其中，所述装 载端、移送模块以及处理模块顺序排列；

所述预曝光/后曝光处理单元进一步包括与曝光单元连接的接口模块，其 中，所述接口模块位于所述处理模块的一侧，并且所述移送模块位于所述处理 模块的另一侧。

2.如权利要求1所述的系统，其中，所述预曝光/后曝光处理单元的处理模 块包括位于不同层内的第一模块和第二模块。

3.如权利要求2所述的系统，其中，所述第一模块包括：

保护层涂覆室，用于在基板上涂覆保护层；

烘干室，用于对所述基板进行热处理；以及

第一机械手，用于在所述保护层涂覆室和所述烘干室之间传送基板。

4.如权利要求3所述的系统，其中，所述第二模块进一步包括用于清洗基 板的清洗室。

5.如权利要求4所述的系统，其中，所述第二模块包括：

后曝光烘干室，用于对曝光的基板执行后曝光烘干工艺；以及

第二机械手，用于在清洗室和后曝光烘干室之间传送基板。

6.如权利要求2所述的系统，其中，所述预曝光/后曝光处理单元进一步包 括位于移送模块和处理模块之间的缓冲模块，所述缓冲模块包括：

第一缓冲器，与所述第一模块的高度相一致，用于临时存放基板；

第二缓冲器，与所述第二模块的高度相一致，用于临时存放基板。

7.如权利要求6所述的系统，其中，所述第一缓冲器和第二缓冲器相互堆 积，并且每个第一缓冲器和第二缓冲器包括多个支架。

8.如权利要求7所述的系统，其中，所述预曝光/后曝光处理单元的缓冲模 块进一步包括缓冲器机械手，用于在第一缓冲器和第二缓冲器之间传送基板。

9.如权利要求8所述的系统，其中，所述第一缓冲器和第二缓冲器在垂直 方向并排放置。

10.如权利要求6所述的系统，其中，所述缓冲模块位于与第一模块相一致 的高度，并且进一步包括用于冷却基板的冷却室。

11.如权利要求2所述的系统，其中，所述接口模块包括：

第一缓冲器，与所述第一模块的高度相一致，用于临时存放基板；

第二缓冲器，与所述第二模块的高度相一致，用于临时存放基板；以及

接口机械手，用于在所述曝光单元和所述第二缓冲器之间以及在所述第二 缓冲器和所述曝光单元之间传送基板。

12.如权利要求1至11任一项所述的系统，其中，所述涂覆单元进一步包括 边缘曝光模块，其中，所述边缘曝光模块位于所述处理模块的一侧，并且所述 移送模块位于所述处理模块的另一侧。