[发明专利]光记录介质用物镜的检查方法无效
| 申请号: | 201010105914.6 | 申请日: | 2010-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN101840712A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
| 发明(设计)人: | 胜间敏明 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
| 主分类号: | G11B7/135 | 分类号: | G11B7/135;G01M11/02 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李贵亮 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 介质 物镜 检查 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光记录介质用物镜的检查方法,更详细地涉及使用于光拾取装置的光记录介质用物镜的检查方法,该光拾取装置将从光源出射的光会聚在光记录介质而进行信息的记录及再现的至少一方。
以往,为了记录声音信息或影像信息、或者计算机用数据信息等,利用DVD(数字通用光盘)或CD(致密盘)等光记录介质。对该光记录介质的数据记录/再现通过由搭载于光拾取装置的物镜将来自光源的光聚光到光记录介质而进行。近几年,如从BD(蓝光光盘)可知,光记录介质的高密度化正在发展,所以要求以亚微米级的精度使光聚光在光记录介质。因此,要求光拾取装置以及用于光拾取装置的物镜具有高度的性能。
在专利文献1记载有与光拾取用光集成装置的检查方法有关的技术。专利文献1记载的技术是形成与高温测量的环境等价的状态,能够在室温环境下检查与半导体激光器在高温环境中工作时相同的信号电平的变动。
专利文献1:日本专利公开2006-54012号公报
在光拾取装置中,不仅对于成为光源的半导体激光器,对于使来自光源的光聚光到光记录介质的物镜,也需要考虑基于温度的影响。随着温度变化,不仅透镜形状变化,折射率也发生变化,透镜的焦距或像差也发生变化。基于这种温度变化的影响,与塑料透镜相比大多显现在玻璃透镜。在轻量化或低成本化的方面,塑料透镜优选于玻璃透镜,但在要求如光拾取用物镜的高性能的透镜上使用塑料透镜时需要注意。
由于折射率随着温度而变化,因此,一般在设计透镜时,将基于使用透镜时的一般透镜的周围温度的温度,作为设计温度而设定,使透镜的形状等最佳化。然而,检查所制作的透镜时的检查温度未必一定限制于与设计温度一致,例如,也存在在检查温度25℃下检查在设计温度35℃下设计出的透镜的情况。
从而,在与设计温度不同的检查温度中检查透镜时,即使能够以制造误差几乎为零的水准制造出的良品的透镜,由于基于设计温度和检查温度之差的影响,所以也存在不能与制造误差大的不良品的透镜相区别而难以判断所制作的透镜的好坏的问题。
上述专利文献1所记载的技术是要解决基于温度变化的影响的问题,但其对象为激光光源而不是透镜,因此,不是解决上述的问题的技术。
发明内容
本发明是借鉴于上述情况而提出的,其目的在于,提供光记录介质用物镜的检查方法,该光记录介质用物镜的检查方法在设计温度和检查温度不同时,能够更加公正地辨别所制作的物镜的好坏。
本发明的第1光记录介质用物镜的检查方法,在按照使从光源出射的光通过光记录介质的透光性的保护层而聚光在光记录介质的预定的位置的方式对将第1温度作为设计温度而设计的塑料制的光记录介质用物镜进行检查时,将取代保护层的检查用平行平板插入到通过该物镜被聚光的光的光路而进行检查,其中,包括:求出在与第1温度不同的第2温度中的物镜的形状及折射率的第1工序;决定计算用平行平板的厚度,以便由具有在第2温度中的形状及折射率的物镜、和与检查用平行平板相同的材质且具有在第2温度中的折射率的计算用平行平板构成的光学系统的像差变为最小的第2工序;利用与在第2工序中决定的计算用平行平板的厚度相同的厚度的检查用平行平板,在第2温度中对基于设计所制作的物镜进行检查的第3工序。
本发明的第2光记录介质用物镜的检查方法,在按照使从光源出射的光通过光记录介质的透光性的保护层而聚光在光记录介质的预定的位置的方式对将第1温度作为设计温度而设计的塑料制的光记录介质用物镜进行检查时,将取代保护层的检查用平行平板插入到通过该物镜被聚光的光的光路而进行检查,其中,包括:求出由物镜和与检查用平行平板相同材质且折射率与保护层不同的计算用平行平板构成的光学系统的在第1温度下的像差变为最小时的计算用平行平板的厚度第1工序;求出在与第1温度不同的第2温度下的物镜的形状及折射率和在第2温度中的计算用平行平板的折射率的第2工序;计算出光学系统的像差,该光学系统由:具有在第2温度中的形状及折射率的物镜和具有在第2温度中的折射率和在第1工序求出的厚度的计算用平行平板构成的第3工序;决定计算用平行平板的厚度,使得由具有第2温度下的形状及折射率的物镜和具有第2温度下的折射率的计算用平行平板构成的光学系统的像差小于在第3工序计算出的像差的第4工序;利用与在第4工序中决定的计算用平行平板的厚度相同的厚度的检查用平行平板,在以第2温度检查中根据设计所制作的物镜的第5工序。
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