[发明专利]用于将样品从溶液中结晶的反应容器

权利要求书

1.一种用于将样品从溶液中结晶的反应容器(1)，所述反应容器(1)包括数个反应室(2)，其中各反应室(2)具有储库(4)和至少一个结晶空间(6)，其中第一反应室(2)的第一侧壁(8)通过连接间隔物(12)隔开一段间隔物距离与第二反应室(2)的第二侧壁(10)连接，所述连接间隔物(12)设置在与反应容器(1)的侧周表面(14)共享的平面上，该平面形成反应容器(1)的平坦表面。

2.如权利要求1所述的反应容器(1)，其特征在于，所述连接间隔物(12)的宽度在≥1.5毫米至≤5毫米的范围内，特别在≥2毫米至≤4毫米的范围内，优选在≥2.5毫米至≤3毫米的范围内。

3.如权利要求1或2所述的反应容器(1)，其特征在于，所述连接间隔物(12)优选在中央具有凹槽(16)。

4.如上述权利要求中任一项所述的反应容器(1)，其特征在于，所述凹槽(16)的宽度在≥0.2毫米至≤0.7毫米的范围内，特别在≥0.3毫米至≤0.6毫米的范围内，优选在≥0.4毫米至≤0.5毫米的范围内，以及/或者深度在≥0.05毫米至≤0.5毫米的范围内，特别在≥0.1毫米至≤0.4毫米的范围内，优选在≥0.2毫米至≤0.3毫米的范围内。

5.如上述权利要求中任一项所述的反应容器(1)，其特征在于，所述连接间隔物(12)在反应室(2)的至少一个角上具有凹陷(18)。

6.如上述权利要求中任一项所述的反应容器(1)，其特征在于，所述结晶空间(6)基本上是椭圆形的。

7.一种用于遮盖包括反应室的反应容器的盖箔(20)，其中，所述盖箔(20)包括聚合物层(22)，在该聚合物层(22)上施加了粘合剂层(24)，粘合剂层(24)中无粘合剂的区域(26)的宽度优选在≥1.5毫米至≤7.5毫米的范围内，长度在≥1.5毫米至≤7.5毫米的范围内。

8.一种将盖箔施加到反应容器上的设备，其包括用于盖箔的固定装置(30)，该装置包括用于接受盖箔的优选矩形的基底结构(32)，其中基底结构(32)的占地区域(34)的宽度优选在≥80毫米至≤90毫米的范围内，长度在≥120毫米至≤135毫米的范围内，其中在基底结构(32)的至少两个相对侧上施加固定部件(36)，利用该固定部件(36)以拉紧的方式将盖箔粘附到基底结构上，其中基底结构(32)优选在角区域内具有至少两个定位元件，优选是凹陷(38)。

9.如权利要求8所述的设备，其特征在于，将可弹性变形的安装表面(40)粘附在固定装置(30)的基底结构(32)上。

10.如权利要求8或9所述的设备，其特征在于，将固定部件(36)设置在轴承中，使得它们能绕轴(42)旋转。

11.如上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，利用压销(44)将固定部件(36)锁定在开放位置，以及/或者利用基底结构(32)和固定部件(36)中的磁铁将固定部件(36)锁定在闭合位置。

12.一种用于将盖箔施加到反应容器上的设备，其包括用于反应容器的接受装置(50)，该装置包括具有凹陷(54)的基底结构(52)，其中在接受装置(50)的基底结构(52)上设置了至少两个定位元件，优选是销型定位元件(56)，优选该定位元件能与如权利要求8-11所述的固定装置的定位元件，优选是凹陷(38)形成咬合，其中，凹陷(54)的尺寸应使得宽度在≥80毫米至≤90毫米范围内的反应容器能定位于凹陷(54)中。

13.一种将盖箔施加到反应容器上的设备，其包括如权利要求8-11所述的用于盖箔的固定装置(30)和如权利要求12所述的用于反应容器的接受装置(50)。

14.一种包含如权利要求1-6中任一项所述的反应容器(1)和盖箔的系统。

15.一种包含反应容器、盖箔和如权利要求8-13中任一项所述的用于将盖箔安装到反应容器上的设备的系统。