[发明专利]用于处理MRSA的组合物和方法

权利要求书

1.用于处理耐甲氧西林的Staphylococcus aureus(“MRSA”)的组合物，所述组合物包含：

光敏剂；

氯己定；和

药学可接受的载体；其中所述组合物用于对含有MRSA的处理位点进行光动力消毒。

2.根据权利要求1的组合物，其中所述光敏剂是吩噻嗪。

3.根据权利要求1或2的组合物，其中所述光敏剂是亚甲蓝。

4.根据权利要求1-3中任一项的组合物，其中氯己定是氯己定二葡糖酸盐。

5.根据权利要求1-4中任一项的组合物，其中所述氯己定的浓度大于约0.01％且小于约2v/v％。

6.根据权利要求1-4中任一项的组合物，其中所述氯己定的浓度大于约0.01％且小于约1v/v％。

7.根据权利要求1-6中任一项的组合物，其中所述氯己定的浓度在约0.125v/v％和约1.5v/v％之间。

8.根据权利要求1-6中任一项的组合物，其中所述氯己定的浓度在约0.125v/v％和约0.8v/v％之间。

9.用于进行光动力消毒的组合物，所述组合物包含：

浓度不大于约1wt％的吩噻嗪；

浓度在约0.125％和约1v/v％之间的氯己定；和

药学可接受的载体；其中所述组合物用于对引起疾病的微生物进行光动力消毒。

10.根据权利要求9的组合物，其中所述吩噻嗪是亚甲蓝。

11.根据权利要求9或10的组合物，其中所述微生物选自由以下组成的组：耐甲氧西林的Staphylococcus aureus，Staphylococcus aureus，Escherichia coli，Enterococcus faecalis，Pseudomonas aeruginosa，Aspergillus，Candida，Clostridium difficile，Staphylococcus epidermidis，Acinetobacter sp.，Porphyromonas，Prevotella，Fusobacterium，Tannerella，Actinobacillus，Selenomonas，Eikenella，Campylobacter，Wolinella及其组合。

12.光敏化组合物用于制造减少引起疾病的微生物的药物的用途，包括：

对含有引起疾病的微生物的处理位点应用组合物，所述组合物包含光敏剂、浓度大于约0.01％且小于约2v/v％的氯己定、和药学可接受的载体；和

以被所述光敏剂吸收的波长对所述处理位点应用光，从而减少所述处理位点处的所述微生物。

13.根据权利要求12的用途，其中所述光敏剂是吩噻嗪。

14.根据权利要求12或13的用途，其中所述光敏剂是亚甲蓝且所述波长范围为从约600nm到约700nm。

15.根据权利要求12-14中任一项的用途，其中所述氯己定的浓度大于约0.01％且小于约1v/v％。

16.根据权利要求12-14中任一项的用途，其中所述氯己定的浓度在约0.125v/v％和约1.5v/v％之间。

17.根据权利要求12-16中任一项的用途，其中所述微生物是选自由以下组成的组的微生物：耐甲氧西林的Staphylococcus aureus，Staphylococcus aureus，Escherichia coli，Enterococcus faecalis，Pseudomonas aeruginosa，Aspergillus，Candida，Clostridium difficile，Staphylococcus epidermidis，Acinetobacter sp.，Porphyromonas，Prevotella，Fusobacterium，Tannerella，Actinobacillus，Selenomonas，Eikenella，Campylobacter，Wolinella及其组合。

18.根据权利要求12-17中任一项的用途，其中所述处理位点是鼻腔。