[发明专利]线栅型偏振器及其制造方法

权利要求书

1.一种线栅型偏振器，其特征在于，包括：

透光性基板，该透光性基板的表面以相互平行且隔开规定的间距的方式形成有多条凸条；

基底层，该基底层至少存在于所述凸条的顶部，由金属氧化物形成；

金属细线，该金属细线由位于所述基底层的表面上并且至少存在于凸条的顶部的金属层形成。

2.如权利要求1所述的线栅型偏振器，其特征在于，金属层还存在于凸条的侧面的至少一部分。

3.如权利要求1或2所述的线栅型偏振器，其特征在于，金属层还存在于凸条的侧面的整个表面。

4.如权利要求1～3中的任一项所述的线栅型偏振器，其特征在于，基底层还存在于凸条的侧面的整个表面。

5.如权利要求1～4中的任一项所述的线栅型偏振器，其特征在于，金属氧化物是SiO₂或TiO₂。

6.如权利要求1～5中的任一项所述的线栅型偏振器，其特征在于，凸条顶部的基底层的高度为1～20nm。

7.如权利要求1～6中的任一项所述的线栅型偏振器，其特征在于，凸条顶部的金属层的高度在30nm以上。

8.如权利要求1～7中的任一项所述的线栅型偏振器，其特征在于，金属细线的间距(Pa)为50～200nm，金属细线的宽度(Da)和间距(Pa)的比值(Da/Pa)为0.1～0.6。

9.一种线栅型偏振器的制造方法，该方法是制造线栅型偏振器的方法，其特征在于，

至少在表面以相互平行且隔开规定的间距的方式形成有多条凸条的透光性基板的凸条的顶部蒸镀金属氧化物，形成由金属氧化物形成的基底层；

接着，至少在凸条的顶部在所述基底层的表面上蒸镀金属，形成金属层作为金属细线。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，通过使用真空蒸镀法的斜向蒸镀法至少在凸条的顶部形成基底层。

11.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，在凸条的整个表面和凸条间的透光性基板表面形成基底层。

12.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，通过溅射法形成基底层。

13.如权利要求9～12中的任一项所述的制造方法，其特征在于，在凸条的侧面的至少一部分和凸条的顶部形成金属层。

14.如权利要求9～13中的任一项所述的制造方法，其特征在于，在凸条的侧面的整个表面和凸条的顶部形成金属层。

15.如权利要求9～14中的任一项所述的制造方法，其特征在于，通过使用真空蒸镀法的斜向蒸镀法形成金属层。

16.如权利要求15所述的制造方法，其特征在于，使用斜向蒸镀法按照下述条件形成金属层：

(A)从与凸条的长度方向大致垂直且与凸条的高度方向成角度θ^R的方向蒸镀金属；

(B)从与凸条的长度方向大致垂直且在所述角度θ^R的相反侧与凸条的高度方向成角度θ^L的方向蒸镀金属；

(C)交替进行采用所述条件(A)的蒸镀和采用所述条件(B)的蒸镀，采用所述条件(A)的蒸镀进行m次，m在1以上，采用所述条件(B)的蒸镀进行n次，n在1以上，合计次数m+n在3次以上；

(D)采用所述条件(A)的m次蒸镀中的第一次蒸镀的角度θ^R满足下式(IV)，采用所述条件(B)的n次蒸镀中的第一次蒸镀的角度θ^L满足下式(V)：

15°≤θ^R≤45°…(IV)、

15°≤θ^L≤45°…(V)；

(E)所述m在2以上时，第i次的θ^R_i和第(i-1)次的θ^R_(i-1)满足下式(VI)，i＝2～m，所述n在2以上时，第j次的θ^L_j和第(j-1)次的θ^L_(j-1)满足下式(VII)，j＝2～n：

θ^R_i≤θ^R_(i-1) …(VI)、

θ^L_j≤θ^L_(j-1) …(VII)。