[发明专利]电沉积线型工具及其制造方法

权利要求书

1.一种电沉积线型工具，其具备：

磁性线状体(4)、和

在所述磁性线状体(4)的外周面被镀层(3)固定的、金属被覆的多个金属被覆磨粒(1)，

所述金属被覆(2)包含无电解Ni-P镀层，所述无电解Ni-P镀层的至少一部分被结晶化。

2.如权利要求1所述的电沉积线型工具，其中，所述金属被覆(2)包含P的含量为4质量％以上的无电解Ni-P镀层，所述无电解Ni-P镀层的至少一部分被结晶化。

3.如权利要求2所述的电沉积线型工具，其中，所述无电解Ni-P镀层的P的含量为6质量％以上9质量％以下。

4.如权利要求2所述的电沉积线型工具，其中，所述金属被覆磨粒(1)包含金刚石，XRD(X-ray diffraction)分析的强度比Ni₃P(231)/金刚石(111)为0.01以上0.3以下。

5.如权利要求2所述的电沉积线型工具，其中，从所述无电解Ni-P镀层的表面到所述金属被覆磨粒(1)存在的部分，粒径为10nm以上的结晶以平均1×10⁷个/mm²以上6×10⁹个/mm²以下存在。

6.如权利要求2所述的电沉积线型工具，其中，观察从所述无电解Ni-P镀层的表面到所述金属被覆磨粒(1)存在的部分的截面时，粒径10nm以上的结晶所占的比率在所述无电解镀层中为20％以上70％以下。

7.如权利要求1所述电沉积线型工具，其中，在所述磁性线状体(4)的外周面(41)所形成的所述镀敷层(3)为镍镀层。

8.如权利要求7所述的电沉积线型工具，其中，构成所述镍镀层的镍组织的平均粒径相对于所述镍镀层的厚度为0.0155倍以上1.000倍以下。

9.如权利要求7所述的电沉积线型工具，其中，所述镍镀层的S(硫)的平均含量为1质量％以下。

10.如权利要求7所述的电沉积线型工具，其中，所述镍镀层的S(硫)的平均含量为0atoms/cm³以上3.0×10¹⁸atoms/cm³以下。

11.如权利要求7所述的电沉积线型工具，其中，所述镍镀层的O(氧)的平均含量为0atoms/cm³以上2.0×10²⁰atoms/cm³以下。

12.如权利要求7所述的电沉积线型工具，其中，在所述镍镀层中进行SIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry)分析时的氢与Ni的二次离子平均强度比(氢平均强度/Ni平均强度)为0以上且不足2.8×10^-2。

13.如权利要求1所述的电沉积线型工具，其中，所述金属被覆磨粒(1)的粒径为5μm以上1000μm以下。

14.如权利要求7所述的电沉积线型工具，其中，在所述镍镀层及所述被金属被覆的磨粒(1)中，所述镍镀层的厚度/所述金属被覆磨粒的平均粒径的值为0.26以上0.8以下。

15.如权利要求1所述电沉积线型工具，其中，所述磁性线状体(4)是进行了黄铜镀敷或铜镀敷的钢琴丝。

16.一种电沉积线型工具的制造方法，其中，包括：

对被覆有无电解Ni-P镀层(2)的金属被覆磨粒(1)进行热处理，使所述无电解Ni-P镀层的至少一部分结晶化的工序；以及

以在镀层液中加入所述热处理后的金属被覆磨粒(1)并使之分散的状态，利用磁力通过磁感应作用使之吸附到基材即磁性线状体(4)并用镀层(3)固定的工序。

17.如权利要求16所述的电沉积线型工具的制造方法，其中，所述无电解Ni-P镀层(2)的P(磷)含量为4质量％以上。

18.如权利要求16所述的电沉积线型工具的制造方法，其中，所述无电解Ni-P镀层(2)的P(磷)含量为6质量％以上9质量％以下。