[发明专利]电磁波/粒子束分光方法和电磁波/粒子束分光装置

权利要求书

1.一种电磁波/粒子束分光方法，其特征在于：

第一步骤，令入射光谱进入拉普拉斯变换过滤器以对所述入射光谱的 强度进行拉普拉斯变换；

第二步骤，接收通过所述拉普拉斯变换过滤器而经拉普拉斯变换的入 射光谱，从而利用检测装置检测所述入射光谱的透射强度；以及

第三步骤，对所述检测到的光谱透射强度进行逆拉普拉斯变换，从而 计算进入所述拉普拉斯变换过滤器的所述入射光谱的强度。

2.如权利要求1所述的电磁波/粒子束分光方法，其特征在于，所述 拉普拉斯变换过滤器包括根据其自身质量衰减所述入射光谱的衰减体；

其中，在所述第二步骤中，在所述衰减体的质量沿着所述入射光谱的 光轴连续变化的条件下，由所述检测装置检测所述入射光谱的透射强度。

3.如权利要求2所述的电磁波/粒子束分光方法，其特征在于，在所 述第二步骤中，所述衰减体沿所述入射光谱光轴的质量是由使所述衰减体 的质量随时间变化的质量变化装置改变的。

4.如权利要求3所述的电磁波/粒子束分光方法，其特征在于，所述 衰减体沿所述入射光谱光轴的质量被设置为在与所述光轴相交的方向上 线性变化，

其中所述质量变化装置使得所述拉普拉斯变换过滤器及所述检测装 置中的至少一个以与该光轴相交的方向相对移动。

5.如权利要求3所述的电磁波/粒子束分光方法，其特征在于，所述 拉普拉斯变换过滤器中设有包含衰减体的腔室，所述衰减体由根据其自身 密度而衰减所述光谱的气体制成；

其中，所述质量变化装置，在面对所述检测装置的拉普拉斯变换过滤 器的位置，连续改变所述衰减体的压力，从而连续改变所述气体的密度。

6.如权利要求2～4中任意一项所述的电磁波/粒子束分光方法，其特 征在于，第一步骤中的所述衰减体是由铁磁体制成，并且所述入射光谱是 在将磁场以相对于所述入射光谱光轴的预定方向施加在所述衰减体上的 条件下进入；

所述方法还包括第四步骤，基于第三步骤所得到的所述入射光谱强 度，计算偏振光谱的强度。

7.一种电磁波/粒子束分光装置，其特征在于，包含

拉普拉斯变换过滤器，其接收入射光谱并对所述入射光谱的强度进行 拉普拉斯变换；

检测装置，其接收所述经拉普拉斯变换的光谱，从而检测到所述光谱 的透射强度；以及

逆拉普拉斯变换装置，其对所述检测到的光谱透射强度进行逆拉普拉 斯变换，从而计算进入所述拉普拉斯变换过滤器的所述入射光谱的强度。

8.如权利要求7所述的电磁波/粒子束分光装置，其特征在于，所述 拉普拉斯变换过滤器包括根据其自身质量而衰减所述光谱的衰减体；

所述装置还包括质量变化装置，其令所述衰减体的质量沿着所述入射 光谱的光轴随时间连续变化。

9.如权利要求7所述的电磁波/粒子束分光装置，其特征在于，所述 拉普拉斯变换过滤器包括根据自身质量衰减所述光谱的衰减体；

其中所述衰减体设置成其质量变化的方向与所述入射光谱的光轴相交；以 及

其中所述检测装置被放在与所述入射光谱光轴相交的方向。

10.如权利要求8所述的电磁波/粒子束分光装置，其特征在于，所述 衰减体沿入射光谱光轴的质量被设置为在与所述光轴相交的方向上线性 变化，

其中所述质量变化装置使得所述拉普拉斯变换过滤器和所述检测装 置以与所述光轴相交的方向相对移动。

11.如权利要求8所述的电磁波/粒子束分光装置，其特征在于，所述 拉普拉斯变换过滤器设有包含衰减体的腔室，所述衰减体由根据其自身密 度衰减所述光谱的气体制成；

其中所述质量变化装置在接收所述经拉普拉斯变换的光谱时，使得所 述腔室中的压力随时间连续变化。