[实用新型]镀膜遮掩模具有效
| 申请号: | 200920350498.9 | 申请日: | 2009-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN201581125U | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
| 发明(设计)人: | 田平;苟新权;殷贵刚 | 申请(专利权)人: | 成都飞机设计研究所 |
| 主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04 |
| 代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 陈宏林 |
| 地址: | 610041 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 镀膜 遮掩 模具 | ||
技术领域
本实用新型是一种镀膜遮掩模具,属于产品的结构技术领域,涉及吹风模型制造技术。
背景技术
测热模型加工是近两年来新涉足的吹风模型加工领域,研究领域迅速扩展,由低速,亚音速,超声速到超高声速研究发展的结果。超高声速飞行器在研究阶段不仅仅要进行其他速度区间的气动,测压等各项实验,还需要进行飞行器在超高声速飞行中外表面与空气摩擦产生高热的测定,这就要求进行模型的测热实验,而我所的某项研究正急需进行该项实验来找出所研究的飞行器在超高声速飞行中的高温,高压分布区。并以此为依据检验,完善研究。
在测热实验中非常重要的一个工具就是特殊的温度传感器,(温度传感器是在特殊的基体材料上镀具有对温度敏感的粒子沉积层)而在温度传感器的加工中需要制作传感器遮掩模具,(遮掩模具的作用是方便粒子按特定的形状,高效,高质量的沉积在基体材料上),遮掩模具的设计合理与否会造成模具无法加工,更会影响传感器制作。其选材要符合真空粒子镀膜机的要求,该材料还要能有机加工及电加工性能,还要在传感器制作中起校验传感器的作用。
由于测热模型类吹风模型的加工为新兴的领域,特别是具有复杂气动外形的项目在行业内做的也不多,没有现成的经验可借鉴。现行的方案中,最接近的为二维平面型的测热传感器。该类传感器是完全平整的传感器基体上,覆盖也为二维的具粒子通道的隔板,再在真空粒子镀膜机内进行镀膜工作。该方法做出的传感器为二维形状,对复杂的有型面要求的地方不能进行真实模拟测量,应用的范围比较狭窄。原有技术还无法解决对具有高仿真要求的三维传感器进行特定形状的镀膜加工。
发明内容
本实用新型正是针对上述现有技术状况而设计提供一种镀膜遮掩模具,其目的是在严格按照数学模型的理论气动外形加工出的材料基体上,覆盖上符合镀膜要求的遮掩模具,使通过该模具加工出的高仿真传感器具有广泛的适用性。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:
该种镀膜遮掩模具,其特征在于:该模具整体为一长方体形状,其上部沿长度的两端各有一个凸缘,两个凸缘之间呈弧形拱起,其下部沿宽度的中心线加工一凹槽,凹槽的顶部与弧形拱起上部的外表面间距为0.2~0.5mm,在凹槽的顶部、沿宽度的中心线加工有穿透弧形拱起上部外表面的狭缝,狭缝沿沿宽度的中心线分段排列,其宽度为0.15~0.3mm,另外,设置一用于支撑该模具的底座。
本实用新型技术方案中,对镀膜遮掩模具上的粒子通道参数的设定,可以提高膜的质量,缩短镀膜的时间,从而大大降低制造成本,获的良好的经济效益。
附图说明
图1为模具的正视图
图2为图1的仰视图
图3为图1的俯视图
图4为图3中C向的剖视图
图5是图3中B向的剖视图
图6为底座的示意图
具体实施方式
以下将结合附图和实施例对本实用新型作进一步地详述:
参见附图1~6所示,该种镀膜遮掩模具,其特征在于:该模具整体为一长方体形状,其上部沿长度的两端各有一个凸缘1,两个凸缘1之间呈弧形拱起2,其下部沿宽度的中心线加工一凹槽4,凹槽4的顶部与弧形拱起2上部的外表面间距为0.2~0.5mm,在凹槽4的顶部、沿宽度的中心线加工有穿透弧形拱起2上部外表面的狭缝3,狭缝3沿沿宽度的中心线分段排列,其宽度为0.15~0.3mm,另外,设置一用于支撑该模具的底座5。
为保证镀膜时粒子的有效穿透性更高而提高镀膜效率,在粒子通道设计时设计为0.2~0.3mm(厚度方向),这样的通道参数的确定既保证了零件本体遮掩模具具有一定的强度,利于采用常规手段进行机械加工,从而保证模具本身的加工质量。而且,该参数类型的粒子通道比1.0mm(厚度方向)的粒子通道,在镀膜的工作时间上可以缩短90%,从而可使成本大幅度下降,经济效益相当可观。这是因为在镀膜机内,发射极射出的粒子并不全部呈直线运动,很多粒子为斜线(相对于通道法线来说)运动,为使尽量多的粒子在单位时间内通过规则通道到达镀粒子零件本体,通道壁厚越薄,即使斜倾角大一点的粒子同样可以穿过通道而成为可利用粒子。在对零件本体遮掩模具进行设计时,其内腔尺寸还应比镀粒子零件本体的实际尺寸要大0.5mm左右(即往非镀膜边延伸0.5mm左右),这样整个本体完全处于遮掩模具的保护之中(除粒子通道外),使从侧面穿射过来的粒子受到阻隔,从而保证只在通道形状处有粒子进行沉积。
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