[实用新型]高硬度可成型反光产品无效
| 申请号: | 200920199838.2 | 申请日: | 2009-11-17 |
| 公开(公告)号: | CN201514493U | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
| 发明(设计)人: | 消滨;沈丰平 | 申请(专利权)人: | 杭州星华反光材料有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/128 | 分类号: | G02B5/128;B32B5/16;B32B17/10;B32B15/20 |
| 代理公司: | 杭州中平专利事务所有限公司 33202 | 代理人: | 翟中平 |
| 地址: | 311116*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 硬度 成型 反光 产品 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种硬度高、成型性好的高硬度可成型反光产品,属反光片材制造领域。
背景技术
本申请人所有专利申明请号2009100958433、名称“反光布专用植珠膜及由植珠膜构成的光固化反光植珠布”,在PET膜的面上涂上一层厚度为10μm~20μm的光固化粘合剂,然后将玻璃微珠密布在其面上,采用真空镀铝的方法在裸露玻璃微珠的面上镀上一层真空镀铝层,然后采用紫外线灯管照射5~60秒即可。该申请主要用于反光布的制作,无法成型,也无法制作成反光片材,并且反光面的硬度低,在1H左右。
目前,国内外市场上销售的自行车头盔上的反光壳,基本上出自台湾商家之手。其不足之处:一是由于结构及制作方法不够成熟,没有解决反光壳反光面硬度的问题,所制作的反光壳面上的反光层的硬度不仅低---在1H左右,用手指甲轻轻一抠,即可抠下,而且存在胶面开裂、胶面与PET膜分离等现象,直接影响到自行车头盔的反光效果、直接影响到其使用的安全性,这已成为人们至今无法解决的难题之一。
发明内容
设计目的:避免背景技术中的不足之处,设计一种一是既具有成型的性能,又具有硬度高、剥离强度高、反光面不裂;二是既具有反光片材的功能,又在片材成型前具有可变形的高硬度可成型反光产品。
设计方案:为了实现上述设计目的。1、采用本申请人背景技术中的植珠膜或现有技术中的植珠膜作为高硬度可成型反光产品的反光层,是本实用新型的技术特征之一。这样做的目的在于:由于紫外线光固化粘合剂系无溶剂固化体系,具有固化快、固化后形成粘接层韧性好,粘接强度高、耐冲击性能优,无毒无味、耐黄变、透明度好等特点,其粘度中等,特别适合于玻璃与PET膜之间的粘接。根据需要,一般胶层厚度为0.01~0.02mm,涂胶后合拢粘接面,稍用力挤压即可使胶层分布均匀并排出汽泡,并且在紫外线照射之前,具有良好的可塑性。2、在第二PET膜的面上涂有紫外线光固化胶层,然后将植珠膜的真空镀铝面复合在紫外线光固化胶层上,剥离第一PET膜,然后根据所需形状成型的设计,是本实用新型的技术特征之二。这样做的目的在于:由于上述的植珠膜具有良好的剥离性,当其与涂有紫外线光固化胶层的PET膜复合后,使植珠膜中的玻璃微珠上下两面完全在PET膜的保护之下,当成型改变其形状时,处于紫外线光固化胶层中的玻璃微珠能够随着形状的变化而自动进行其位置的二次调整,直至成型后自动与紫外线光固化胶层相容定位,由于位于玻璃微珠及紫外线光固化胶层上下的PET膜始终处于支撑和维护玻璃微珠与紫外线光固化胶之间的良好相容、定位,因此为避免成型后的反光面开裂起到了决定性的作用。3、采用紫外线固化,是本实用新型的技术特征之三。这样做的目的在于:由于紫外线光固化粘合剂只有在紫外线照射下,才产生固化,因此它不仅可以提供足够的时间来使反光片材根据用户需要成型,而且能使紫外线光固化胶层快速固化,形成高交联密度,高硬度胶层,而且不开裂、具有优异的附着力。
技术方案:高硬度可成型反光产品,它包括成型产品,所述成型产品中反光壳的层状结构依次是PET膜、紫外线光固化胶层、植珠膜。
本实用新型与背景技术相比,一是不仅开创了可成型产品的新领域,而且所制作的成型产品在成型前不仅具有良好的可塑性,而且其成型后的反光壳反光面不开裂、硬度高,可达3.5H及3.5H以上;二是采用本申请制作自行车反光头盔、摩托车头盔、安全头盔,不仅反光效果好,而且反光面硬度高,其使用的安全性得到了根本性的保障。
附图说明
图1是高硬度可成型反光产品的结构示意图。
图2是植珠膜的结构示意图。
具体实施方式
实施例1:参照附图1和2。高硬度可成型反光产品,它包括成型产品,所述成型产品中反光壳的层状结构以次是PET膜1、紫外线光固化胶层2、植珠膜3。所述植珠膜3中的PET膜4的面上涂有紫外线光固化胶层5,玻璃微珠6密布在紫外线光固化胶层5,玻璃微珠6面上镀有真空镀铝层7。植珠模3的制作方法有多种多样均系现有技术,在此不作叙述。
需要理解到的是:上述实施例虽然对本实用新型作了比较详细的文字描述,但是这些文字描述,只是对本实用新型设计思路的简单文字描述,而不是对本实用新型设计思路的限制,任何不超出本实用新型设计思路的级合、增加或修改,均落入本实用新型的保护范围内。
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