[实用新型]珠体饰品的研磨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种研磨装置，特别是涉及一种珠体饰品的研磨装置。

背景技术

图1绘示一般珠体饰品的外观示意图。一般珠体饰品300具有一球形表面310，其一相对侧通常具有一相对的侧平面320，该等侧平面之间相互贯穿而形成一穿孔330。依此，一穿绳可串穿多数的珠体饰品300而形成例如手环、项链或吊环等饰件。

在制作上述珠体饰品300时，一般是先制成珠体胚体，再在胚体表面进一步研磨，使其光亮细致，而形成一用来装饰用的珠体饰品300。

对于珠体饰品300表面的研磨，现有习知是以手指握持珠体饰品300的两侧平面320，再以研磨工具对珠体饰品300的球形表面逐步进行研磨。然而此种研磨方式，其生产速度慢，且其稳定性不佳，表面研磨的效果不佳，无法获得品质稳定的珠体饰品300。

由此可见，上述现有的珠体饰品的研磨方式显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的珠体饰品的研磨装置，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。

发明内容

本实用新型的目的在于，克服现有的珠体饰品的研磨方式存在的缺陷，而提供一种新型的珠体饰品的研磨装置，所要解决的技术问题是使其可快速对珠体饰品的表面进行稳定研磨，而获得品质稳定均一的珠体饰品，非常适于实用。

本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本实用新型提出的一种珠体饰品的研磨装置，其包括有：一挟持单元，包含有一对可转动的挟持臂，用以挟持一珠体饰品，并使珠体饰品转动：以及一研磨单元，相邻设置于挟持单元，研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构，用以依序对珠体饰品的表面进行研磨。依所设的挟持单元及研磨单元，可快速对珠体饰品的表面进行稳定的研磨，而获得品质稳定均一的珠体饰品。

本实用新型的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。

根据本实用新型的一实施例，挟持单元进一步包括有：一第一架体，立设于一固定体上；一座体，组设于第一架体，且座体与第一架体之间设有一升降机构；一平台，组设于座体的顶面，且平台与座体之间设有一水平移动机构；一避震轴承，装设于平台，避震轴承的相对侧分别设有一支持臂与一承载臂，支持臂的端部的两侧延伸设有上述一对挟持臂，其包括相隔离的一第一挟持臂与一第二挟持臂，承载臂的端部与平台之间则设有一制震弹簧；珠体马达，装设于承载臂，珠体马达的输出轴经一传动皮带传动至第一挟持臂。依此使得珠体饰品可被挟持及转动，并可水平移动及上下升降，且在研磨时，避免产生过度的震动。

根据本实用新型的一实施例，第二挟持臂可以轴向伸缩，而用以与第一挟持臂共同挟持或放开珠体饰品。

根据本实用新型的一实施例，升降机构是在第一架体的顶面与座体的底面之间设有一直向汽缸，使得座体可相对于第一架体而上下升降。

根据本实用新型的一实施例，水平移动机构在座体的顶面的两侧各设有一水平轴向延伸的导轨，而平台的底面设有与导轨相配应的导槽，且座体与平台的内面之间设有一水平轴向汽缸，使得平台可相对于座体作左右横向的水平位移。

根据本实用新型的一实施例，直向汽缸设有一高度限位调节螺杆，用以限制座体的升降高度。

根据本实用新型的一实施例，座体的端部延伸设有一左右限位调节螺杆，用以限制平台左右横向水平位移的距离。

根据本实用新型的一实施例，第一与第二研磨机构各装设于一第二架体，其立设于一固定体上，每个研磨机构各包括有：一研磨马达，装设于第二架体；一驱动轮，枢设于研磨马达的输出轴；一研磨轮，枢设于第二架体，并相邻于驱动轮，且研磨轮具有配应于珠体饰品的表面的弧形内壁；一调整轮，组设于第二架体，并与驱动轮相分隔，且调整轮与第二架体之间设有一位置调节机构，用以调节调整轮及其上的研磨带的位置；以及一研磨带，绕设于驱动轮、研磨轮以及调整轮的外周之间。研磨马达带动驱动轮转动，进而带动研磨带绕转，以对珠体饰品的表面进行研磨。

根据本实用新型的一实施例，研磨轮的弧形内壁为弹性弧形内壁，以利于经由研磨带而与珠体饰品的表面弹性接触，而利于研磨。