[实用新型]掩膜板承座及曝光设备

说明书

技术领域

本实施方式涉及显示面板曝光设备技术领域，特别涉及适用于无源有机 电致发光显示面板实验线用的曝光设备的相关技术。

背景技术

有机电致发光显示(Organic Electroluminesence Display，简称 “OELD”)具有自发光性、广视角、高对比、低耗电、高反应速率、全彩 化、制程简单等优点，被视为下一代最理想的显示技术，现已开始应用于 MP3(MPEG Audio Layer 3，简称“MP3”)、手机、个人数字助理(Personal Digital Assistant，简称“PDA”)、音响显示面板等小尺寸领域。OELD按 照驱动方式分为有源矩阵(Acitive Matrix，简称“AM”)和无源矩阵(Passive Matrix，简称“PM”)两种方式。无源有机电致发光显示(PMOLED)面板 上的ITO(氧化铟锡)和金属电极通过光刻形成相互正交的平行电极，二者 交叉处形成一个发光单元，通过扫描信号逐行点亮形成一帧图象。由于每一 行的显示时间都非常短，要达到正常的图象亮度，每一行的亮度都要足够高。 这需要很高的电流和电压进行驱动，因此PMOELD的产品多为2～5英寸的 小尺寸面板。

无源有机电致发光显示面板已有部分厂家实现了商业上的批量生产，但 作为一种新型的平板显示，无源有机电致发光器件仍需不断进行产品性能的 改进，其实验线设备仍是量产厂家及研究机构配备的必须设备。其中曝光设 备又是实验线的核心设备，由于新产品的研发需要设计不同的图形，因此会 需要相应的各种曝光掩膜板，基板的规格也会用于实验需要而有所变化，因 此对曝光机的兼容性会又较高的要求。一般来说，实验线上通常会用大尺寸 曝光机台，大尺寸的曝光机台可以通过调整基板承座上吸附孔的分布区域对 不同尺寸的基板进行曝光，但曝光掩膜板的大小是不变的，必须是大尺寸的 (比最大尺寸的基板面积还要大)。掩膜板越大，采购成本越高，且需要经 常更换。为了节约成本，有的厂家会将不同掩膜图形做在一张大掩膜板上分 别曝光，但由于图形偏离曝光的中心区域，可能导致曝光不均匀，且如果小 尺寸基板长期使用基板承座的某一部分，会导致基板承座往一个方向倾斜， 最终影响曝光的效果。

实施方式内容

本实施方式的目的在于提供一种掩膜板承座及曝光设备，使得用于小尺 寸PMOLED面板的曝光设备的结构得以优化、使用成本得以降低。

为解决上述技术问题，本实施方式的实施方式提供了一种掩膜板承座， 用于制作无源有机电致发光显示面板的曝光设备，承座包括：掩膜板的支撑 架(104)；支撑架(104)的中间有一个开口(101)，用于曝光掩膜板的图形；在 支撑架(104)的内边缘上，有用于吸住掩膜板的吸附沟(103)，和用于固定掩 膜板的固定装置，开口(101)的尺寸小于曝光设备所支持的最大基板尺寸。

本实施方式的实施方式还提供了一种曝光设备，用于制作无源有机电致 发光显示面板，该设备中包括一个如上所述的掩膜板承座。

本实施方式实施方式与现有技术相比，主要区别及其效果在于：

使用开口较小的掩膜板，可以在大尺寸曝光机上使用小尺寸的掩膜板， 节约了掩膜板的采购成本。

进一步地，通过可拆卸卡座将掩膜板承座固定在曝光设备上，可以在同 一个曝光设备上方便地更换不同的掩膜板承座，以适用不同大小的掩膜板。

进一步地，掩膜板承座以铝合金材料制成，重量较轻，便于掩膜板承座 的拆卸和更换。

进一步地，开口设在曝光面积的中央区域，使曝光具有较好的均匀性。

进一步地，为同一个曝光设备配备多个不同开口大小的掩膜板承座，使 一个曝光设备可以适用于多种尺寸的掩膜板。

附图说明

图1是本实施方式第一、二实施方式中掩膜板承座的结构示意图。

具体实施方式

在以下的叙述中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细 节。但是，本领域的普通技术人员可以理解，即使没有这些技术细节和基于 以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请各权利要求所要求保 护的技术方案。

为使本实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对 本实施方式的实施方式作进一步地详细描述。