[发明专利]掺氮细化薄膜中有序化面心四方结构铁铂颗粒尺寸的方法

权利要求书

1.一种掺氮细化薄膜中有序化面心四方结构铁铂颗粒尺寸的方法，其特征是步骤如下：

1)采用中科院沈阳科学仪器研制中心生产的DPS-II型超高真空对向靶磁控溅射镀膜机，在对向的靶头上安装一对纯度为99.99％的石墨靶，一头作为磁力线的N极，另一头为S极；靶材的厚度为5mm，直径为100mm；在C靶的表面均匀放置纯金属Fe(99.99％)和Pt(99.99％)各8片，每个金属片的面积为0.8cm2，使得样品中Fe和Pt的原子比为52∶48；薄膜中C原子百分比为47％；两个靶之间的距离为100mm，靶的轴线与样品架之间的距离为100mm；

2)将基底材料表面杂质清除后，安装在对向靶连线的中垂线上；

3)开启DPS-II对向靶磁控溅射设备，先后启动一级机械泵和二级分子泵抽真空，直至溅射室的背底真空度为2×10-4Pa；

4)向真空室通入纯度为99.999％的Ar(32sccm)和N2(8sccm)的混合气体，将真空度保持在0.5Pa；

5)开启溅射电源，在一对C靶上施加0.2A的电流和1000V左右的直流电压，预溅射10分钟，等溅射电流和电压稳定；

6)打开基片架上的档板开始溅射，基片位置固定；溅射过程中，基底不加热；

7)溅射结束后，关闭基片架上的档板，然后关闭溅射电源，停止通入溅射气体Ar和N2，完全打开闸板阀，继续抽真空，然后关闭真空系统；待系统冷却后，向真空室充入纯度为99.999％的氮气，打开真空室，取出样品；

8)将样品放入退火炉中进行退火，先后启动一级机械泵和二级分子泵抽退火炉的真空室，直至退火炉真空室的背底真空度为8×10-6Pa；以每分钟10℃的升温速度，升温至650℃，在650℃温度下保持1小时，此后已每分钟5℃的降温速率进行降温，降至室温取出样品。