[发明专利]一种方孔光子筛及其制作方法无效
| 申请号： | 200910310249.1 | 申请日： | 2009-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102073084A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 谢常青;潘一鸣;朱效立;贾佳;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光子 及其 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种方孔光子筛，所述光子筛包括透光衬底和镀在所述透光衬底上的不透光金属薄膜；其特征在于：所述不透光金属薄膜上分布有多个透光方形小孔；所述方形小孔呈环带状分布，所述方形小孔的对角线与方形小孔所在环带相垂直。
2.如权利要求1所述的方孔光子筛，其特征在于：所述环带半径为rm、环带宽度为wm，其中：
rm2＝2mfλ+m2λ2；
对应rm上的透光方形小孔的边长为：
其中λ为波长，f为焦距，m为方形小孔所在环带的环数，最内环为第一环。
3.如权利要求2所述的方孔光子筛，其特征在于：所述透光衬底的材料为透光材料。
4.如权利要求3所述的方孔光子筛，其特征在于：所述透光材料为熔融石英、普通玻璃或有机玻璃。
5.如权利要求1所述的方孔光子筛，其特征在于：所述不透光金属薄膜的材料为铬、金、铝或铜。
6.如权利要求5所述的方孔光子筛，其特征在于：所述不透光金属薄膜的厚度大于80nm。
7.一种方孔光子筛的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：
(1)设计版图；
(2)根据设计的版图制作得到光学光刻掩膜版；
(3)在透光衬底上蒸镀一层金属薄膜；
(4)在透光衬底上涂覆光刻胶，用光学光刻掩膜版进行光学光刻，显影定影后，采用湿法或者干法腐蚀的方法将光刻后暴露出来的金属薄膜去除，即得到方孔光子筛。
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