[发明专利]用于光刻过程窗口最大化光学邻近效应校正的方法和系统

权利要求书

1.一种用于最大化光刻过程的过程窗口的方法，包括步骤：

计算过程条件参数的解析函数，所述解析函数近似目标图案中多个评 估点中的每一个评估点的在过程窗口上的抗蚀剂图像值；

基于所述解析函数确定每个评估点在名义条件下的所述抗蚀剂图像值 的目标值，使得所述过程窗口被最大化；

采用所述目标值作为光学邻近效应校正迭代中每个评估点的优化目 标；和

在光学邻近效应校正过程中以迭代的方式执行边缘移动过程，直到在 每个评估点所近似的抗蚀剂图像值收敛到所述优化目标值。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述过程窗口包括特定过程参 数的范围，在所述特定过程参数的范围内，抗蚀剂临界尺寸和由此的抗蚀 剂图像值被包含在预定义的范围内。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，在名义条件下的所述抗蚀剂图 像值的目标值采用包括平分法的数值法进行确定。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，为最佳焦距给定抗蚀剂图像值 的解析的目标值。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述解析函数包括多项式函数。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，每个评估点的所述目标值在多 次光学邻近效应校正迭代中的每一次被重新计算。

7.一种用于最大化目标图案的光刻过程窗口的方法，所述方法包括步 骤：

确定目标图案中多个评估点的固定阈值附近的抗蚀剂图像值的可接受 的变化；

计算名义过程窗口条件下每个评估点在抗蚀剂图像值的可接受的变化 内的优化目标值，使得在经历所述抗蚀剂图像值被保持在其可接受的变化 内的条件时所述过程参数变化范围最大化；

在光学邻近效应校正过程中以迭代的方式执行边缘移动过程，直到在 每个评估点所近似的抗蚀剂图像值收敛到所述优化目标值。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，在每次迭代中对每个评估点动 态地设定所述目标水平以最大化所述过程窗口。

9.一种用于最大化与目标图案的光刻过程相关的过程窗口的方法，所 述方法包括步骤：

基于解析函数确定目标图案中多个评估点中的每一个评估点的抗蚀剂 图像值的优化目标灰度，以便最大化所述过程窗口；

采用所述目标灰度值作为在光学邻近效应校正迭代中每个评估点的所 述抗蚀剂图像值的优化目标；和

确定所述光学邻近效应校正迭代的最佳边缘移动量，使得所得的抗蚀 剂图像值等于所述目标灰度。

10.一种用于最大化与目标图案的光刻过程相关的过程窗口的方法，所 述方法包括步骤：

基于解析函数确定目标图案中多个评估点中的每一个评估点在名义过 程条件下的抗蚀剂图像值的优化目标灰度，以便最大化给定名义条件的所 述过程窗口；

在光学邻近效应校正过程中以迭代的方式执行边缘移动过程，直到每 个评估点处的所近似的抗蚀剂图像值收敛到所述名义过程条件下的优化目 标灰度值；

由所述光学邻近效应校正确定所得的抗蚀剂图像的优化名义条件，以 便最大化所述过程窗口；和

交替地重复执行确定所述优化目标灰度、所述光学邻近效应校正和确 定所述优化名义条件的步骤，直到收敛到优化目标图案。

11.一种用于最大化光刻过程的至少一个过程条件参数的可接受的值 的范围的方法，包括步骤：

采用至少一个过程条件参数的解析函数，用于近似目标图案中多个评 估点中的每一个评估点的在所述至少一个过程条件参数的多个值上的抗蚀 剂图像特征的值；

基于对应于最大宽度范围的近似确定每一个评估点的所述抗蚀剂图像 特征的目标值；

在光学邻近效应校正迭代中采用所述目标值作为每个评估点的优化目 标；和

在光学邻近效应校正过程中以迭代的方式执行边缘移动过程，直到在 每个评估点所近似的抗蚀剂图像特征的值收敛到优化目标值。