[发明专利]用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置无效
| 申请号: | 200910248673.8 | 申请日: | 2009-12-23 |
| 公开(公告)号: | CN102109465A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
| 发明(设计)人: | 辛勇;于海斌;杨志家;孙兰香;丛智博;孔海洋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院沈阳自动化研究所 |
| 主分类号: | G01N21/63 | 分类号: | G01N21/63;G01N21/01 |
| 代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 许宗富 |
| 地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 熔融 金属 激光 诱导 击穿 光谱 装置 | ||
1.一种用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置,其特征在于:包括光源系统、光路系统及信号采集分析系统,光源发出的激光与光路系统的二向色镜形成45°入射角,光路系统通过光纤与信号采集分析系统连接。
2.根据权利要求1所述用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置,其特征在于:所述的光路系统包括二向色镜、两个聚焦透镜、光纤和两个电控平移台,所述两个聚焦透镜和二向色镜同轴固定,第二聚焦透镜和光纤分别固定在两个电控平移台上,第二聚焦透镜位于感应炉内坩埚中熔融金属上方,并且使其焦点位于熔融金属液面中,光纤位于第一聚焦透镜的焦点处,并与信号采集分析系统的分光仪连接,二向色镜设置在两聚焦透镜之间,光源的光线投射在二向色镜上形成45°入射角,两个电控平移台分别与信号采集分析系统的计算机连接。
3.根据权利要求1所述用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置,其特征在于:所述的信号采集分析系统包括分光仪、光电倍增管、取样积分器、示波器、光电二极管和计算机,分光仪通过光电倍增管分别与取样积分器、示波器连接,取样积分器和示波器分别与光电二极管连接,示波器通过取样积分器与计算机连接;光电倍增管上连接有高压电源。
4.根据权利要求1所述用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置,其特征在于:所述的光源为Nd:YAG激光器。
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