[发明专利]特征尺寸条和金属层标识的排布有效
| 申请号: | 200910196808.0 | 申请日: | 2009-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN102034795A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
| 发明(设计)人: | 宁先捷;楠暖 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544 |
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 牛峥;王丽琴 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 特征 尺寸 金属 标识 排布 | ||
1.一种特征尺寸条的排布,所述特征尺寸条具有不同间距的特征尺寸,用于控制特征尺寸精确度,其特征在于,所述特征尺寸条位于晶圆允收测试WAT结构或可靠性reliability测试结构的空间内。
2.如权利要求1所述的排布,其特征在于,所述特征尺寸条包括前段工序中的特征尺寸条和后段工序中的特征尺寸条,所述前段工序中的特征尺寸条包括有源区的特征尺寸条、离子注入区的特征尺寸条、栅极的特征尺寸条以及接触层的特征尺寸条;所述后段工序中的特征尺寸条包括金属层的特征尺寸条和通孔的特征尺寸条。
3.如权利要求2所述的排布,其特征在于,所述前段工序中的特征尺寸条位于WAT结构或可靠性测试结构的测试衬垫下面的衬底上,所述前段工序中的特征尺寸条通过绝缘介质层与测试衬垫绝缘。
4.如权利要求3所述的排布,其特征在于,所述在WAT结构或可靠性测试结构的测试衬垫下面的衬底上制作的特征尺寸条,为有源区的特征尺寸条、离子注入区的特征尺寸条、栅极的特征尺寸条以及接触层的特征尺寸条中的任意一种,或者几种的依次叠加排布。
5.如权利要求2所述的排布,其特征在于,所述前段工序中的特征尺寸条位于WAT结构或可靠性测试结构的末端空白衬底上,所述末端空白衬底为测试结构的具有测试结构编号标识的另一端。
6.如权利要求5所述的排布,其特征在于,所述在WAT结构或可靠性测试结构的末端空白衬底上制作的特征尺寸条,为有源区的特征尺寸条、离子注入区的特征尺寸条、栅极的特征尺寸条以及接触层的特征尺寸条中的任意一种,或者几种的依次叠加排布。
7.如权利要求2所述的排布,其特征在于,所述后段工序中的特征尺寸条位于WAT结构或可靠性测试结构的末端空白衬底上,所述末端空白衬底为测试结构的具有测试结构编号标识的另一端。
8.如权利要求7所述的排布,其特征在于,所述在WAT结构或可靠性测试结构的末端空白衬底上制作的特征尺寸条,叠加排布在前段工序特征尺寸条上。
9.如权利要求7所述的排布,其特征在于,所述在WAT结构或可靠性测试结构的末端空白衬底上制作的特征尺寸条,位于测试结构的末端空白衬底上未制作特征尺寸条的位置。
10.一种金属层标识的排布,所述金属层标识用于标志具体金属层,其特征在于,所述金属层标识位于晶圆允收测试WAT结构或可靠性reliability测试结构的空间内。
11.如权利要求10所述的排布,其特征在于,所述金属层标识位于WAT结构或可靠性测试结构的末端空白衬底上,在末端空白衬底上按照编号依次叠加排布。
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