[发明专利]光罩清洗方法有效

专利信息
申请号: 200910196549.1 申请日: 2009-09-27
公开(公告)号: CN102033416A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 李德建 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;B08B7/04;F26B5/08
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 谢安昆;宋志强
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 清洗 方法
【权利要求书】:

1.一种光罩清洗方法,当拆掉光罩上的光罩保护膜后,该方法包括:

在光罩上的光罩保护膜粘贴区域均匀喷洒指定溶液,并对喷洒有指定溶液的区域进行单方向擦拭,当目测光罩上不存在残胶时,停止擦拭;

依次利用臭氧水、去离子水、SC-1溶液和去离子水对光罩进行清洗;

对清洗后的光罩进行干燥处理。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述依次利用臭氧水、去离子水对光罩进行清洗之后,进一步包括:

利用纳米波长的深紫外灯对光罩进行照射;照射预定时长后,再次利用臭氧水对光罩进行清洗。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述利用纳米波长的深紫外灯对光罩进行照射的时长为8~12分钟;所述纳米波长的深紫外灯发出的紫外光的波长为172纳米。

4.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,所述指定溶液为丙酮。

5.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,所述对喷洒有指定溶液的区域进行单方向擦拭包括:

等待2~3分钟后,利用棉签对喷洒有指定溶液的区域进行单方向擦拭。

6.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,所述臭氧水的浓度为80~90毫克/升;每次利用臭氧水进行清洗的时长为3~8分钟。

7.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,每次利用去离子水进行清洗的时长为5~10分钟。

8.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,所述利用SC-1溶液进行清洗的时长为3~5分钟。

9.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,所述对清洗后的光罩进行干燥处理包括:

将清洗后的光罩固定在机台上,利用电机驱动机台旋转,利用旋转的离心力甩干水汽以及利用与空气的摩擦蒸发水汽,达到干燥的目的。

10.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,在拆掉光罩上的光罩保护膜后的半小时内,在所述光罩保护膜粘贴区域均匀喷洒指定溶液。

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