[发明专利]氯硅烷液的收纳容器及该收纳容器用封闭盖

说明书

技术领域

本发明涉及氯硅烷液的收纳容器及该收纳容器用封闭盖。

本申请针对在2008年8月13日申请的日本国专利申请第 2008-208320号主张优先权，并在此引用其内容。

背景技术

三氯硅烷、四氯硅烷等的氯硅烷类用于多晶硅和硅片的外延膜等 的半导体、光纤的原材料等。通常，在制造工场内将氯硅烷类填充在 容器或气瓶中，将其搬运至半导体和光纤等的制造工场来使用。这些 氯硅烷类如果与空气等中包含的水分反应，则产生腐蚀性气体和二氧 化硅。该腐蚀性气体和二氧化硅产生腐蚀设备且招致品质的恶化、配 管的堵塞等问题，因而要求容器内的氯硅烷类不与空气和水接触。

作为使空气不与容器内的氯硅烷接触的提案，一直以来，采用例 如日本特开平5-231598号公报和特开2008-116044号公报所记载的封 闭构造。

在特开平5-231598号公报的气体填充容器中，为了防止松开阀时 漏出的硅烷气体在空气中自燃起火、污染金属口部、腐蚀金属口部和 气体供给系，设置将金属口部气密地封闭的帽，并且，在该帽内设有 吸附水分和氧的吸附剂和吸附硅烷气体的吸附剂。在特开平5-231598 号公报中记载了由该吸附剂将金属口部和帽内的气氛置换为以氮气 等为主要成分的惰性气体，因而即使硅烷气体漏出，也能够抑制腐蚀。

在特开2008-116044号公报中记载了一种泄漏抑制装置，该泄漏 抑制装置以包围与容器的出口开口连接的流体流动部件的方式设置 抑制包围体，并能够收集泄漏的反应性气体。

然而，在液态的氯硅烷类的收纳容器中，无法应用以气体漏出的 防止为课题的上述特开平5-231598号公报及特开2008-116044号公报 的技术。

例如，对于特开平5-231598号公报的气体填充容器而言，在液态 的氯硅烷泄漏的情况下，无法用吸附剂来吸收。另外，对于特开 2008-116044号公报的装置而言，其相对于配管连接部的泄漏为有效 的手段，而在产生因阀的密封性恶化而导致的泄漏的情况下，却不是 有效的手段。

尤其是，氯硅烷类在与空气接触时反应，在阀上产生锈，使二氧 化硅附着，妨碍阀的动作。在由封闭盖封闭阀的端部的情况下，如果 在此间形成的密闭的空间中存在着包含水分的空气，产生因阀的密封 性的恶化而导致的氯硅烷的泄漏，则产生腐蚀内部等的问题。

本发明是鉴于这种情形而提出的，其目的在于，提供一种能够以 简单的构造维持阀的健全性并可靠地防止因内容物的漏出而导致的 腐蚀性气体的产生的氯硅烷液的收纳容器及该收纳容器用封闭盖。

发明内容

用于达成上述目的的本发明的氯硅烷液的收纳容器具有收纳所 述氯硅烷液的箱、安装在所述箱上并且外部的配管可装卸地连接到其 上的阀、以及在所述外部的配管从所述阀脱离时密封所述阀的封闭 盖，所述阀具有壳以及设在所述壳中的阀体，所述壳具有连接法兰， 所述连接法兰具有用于连接所述外部的配管的连接面，所述封闭盖具 备：具有与所述连接法兰的所述连接面相接的封闭面的盖体、用于将 惰性气体供给至所述封闭盖和所述阀体之间的所述壳内的空间中的 供给管、开闭所述供给管的供给阀、从所述空间排出气体的排气管和 开闭所述排气管的排气阀。

依照该发明，由于能够由与氯硅烷液不反应的惰性气体充满形成 于阀的阀体和封闭盖之间的空间，因而能够防止腐蚀性气体和二氧化 硅的产生。而且，由于能够使该空间与收纳容器内相比为正压，因而 强化阀的密封性并能够防止从阀的漏出。

另外，本发明的氯硅烷液收纳容器用封闭盖以能够装卸的方式安 装在阀的连接法兰上，该阀固定在收纳氯硅烷液的箱上。上述氯硅烷 液收纳容器用封闭盖具备具有与所述连接法兰的连接面相接的封闭 面的盖体、用于将惰性气体供给至所述封闭盖和所述阀的阀体之间的 空间中的供给管、开闭所述供给管的供给阀、从所述空间排出气体的 排气管、开闭所述排气管的排气阀，所述氯硅烷液收纳容器用封闭盖 通过将所述封闭盖固定在所述连接法兰上来密封所述空间。

依照本发明的氯硅烷液的收纳容器及该收纳容器用封闭盖，由于 抑制了腐蚀性气体和二氧化硅的产生，因而能够防止阀周边的部件的 腐蚀导致的阀的密封性的下降和氯硅烷液的泄漏，并且也能够降低取 下封闭盖时的危险性。

附图说明

图1是显示本发明的氯硅烷液的收纳容器的一个实施例的模式 图。