[发明专利]光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置有效
| 申请号: | 200910164462.6 | 申请日: | 2003-12-18 |
| 公开(公告)号: | CN101697064A | 公开(公告)日: | 2010-04-21 |
| 发明(设计)人: | 羽田英夫;岩井武;嶋崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;B01D61/58;B01D69/02;B01D71/26;B01D71/56 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光致抗蚀剂 组合 制造 方法 过滤 装置 | ||
1.一种光致抗蚀剂组合物的制造方法,其特征在于具有使光致抗蚀剂组合 物通过设置有由孔径为0.04μm以下的尼龙膜组成的第1膜的第1过滤 器的工序,其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分A、由曝光产生酸 的酸产生剂成分B和有机溶剂C;
并且在使光致抗蚀剂组合物通过第1过滤器的工序之前或/和之后, 具有使所述光致抗蚀剂组合物通过第2过滤器的工序,所述第2过滤器 具有聚乙烯或聚丙烯制的第2膜,
所述树脂成分A具有衍生自具有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙 烯酸酯的结构单元a1、衍生自具有内酯环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元 a2以及衍生自具有羟基和/或氰基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元a3。
2.一种过滤装置,其特征在于是具有蓄留含有树脂成分A、由曝光产生酸 的酸产生剂成分B和有机溶剂C的光致抗蚀剂组合物的蓄留部分、和 使该光致抗蚀剂组合物通过的第1过滤部分和第2过滤部分的过滤装 置,上述第1过滤部分具有设置有由孔径为0.04μm以下的尼龙膜组成 的第1膜的第1过滤器,所述第2过滤部分具有第2过滤器且被设于所 述第1过滤部分的前面或/和后面,所述第2过滤器具有聚乙烯或聚丙 烯制的第2膜,所述树脂成分A具有衍生自具有酸离解性溶解抑制基 的(甲基)丙烯酸酯的结构单元a1、衍生自具有内酯环的(甲基)丙 烯酸酯的结构单元a2以及衍生自具有羟基和/或氰基的(甲基)丙烯酸 酯的结构单元a3。
3.安装有权利要求2所述的过滤装置的光致抗蚀剂组合物的涂布装置。
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