[发明专利]等离子体处理装置和其使用的处理气体供给装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其处理室内相对配置有第1电极和第 2电极，在所述第2电极支承的平板显示器用基板上导入处理气体，并 且向所述第1电极和第2电极中的1个或2个供给高频电压，生成等 离子体，对所述平板显示器用基板施行指定的等离子体处理，其特征 在于：

具有向所述第1电极供给处理气体的处理气体供给装置，

所述第1电极，具有与所述第2电极相对，形成有将所述处理气 体向所述处理室内喷出的多个气体喷射孔的电极板，和支承所述电极 板的支承体，和形成在所述支承体和所述电极板之间，导入所述处理 气体的中空部，和将所述中空部分成中央室和周边室的环状分隔壁，

所述处理气体供给装置，具有处理气体供给单元，和将来自所述 处理气体供给单元的处理气体2路分流的各分支管，和调整流过这些 分支管的流量的流量调整单元，和将来自所述各分支管的处理气体分 别导入所述中央室和所述周边室的管道，

所述各流量调整单元，具有所述各分支管上安装的开关阀和固定 节流阀，

连接所述中央室的分支管的流量调整单元具有旁通管，该旁通管 与所述开关阀和所述固定节流阀并列、具有与所述开关阀不同的其它 开关阀并且不通过所述固定节流阀。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

连接所述周边室的分支管的流量调整单元中，所述开关阀和所述 固定节流阀之间连接有惰性气体供给管，该惰性气体供给管上设有开 关阀。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述各流量调整单元分别具有与所述开关阀和所述固定节流阀并 列的多个旁通管，并且所述各旁通管分别具有开关阀和固定节流阀， 所述各流量调整单元的固定节流阀各自调整开度，形成不同的导流功 能比。

4.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

从所述各分支管向所述中央室和所述周边室导入处理气体的气体 导入孔的向所述中空部开口的排出口上设置有整流部件，以将排出到 所述中空部的气体的流向改变成水平方向。

5.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述固定节流阀是针型阀。

6.一种处理气体供给装置，在等离子体处理装置中向第1电极提 供处理气体，该等离子体处理装置，其处理室内相对配置有第1电极 和第2电极，在所述第2电极支承的平板显示器用基板上导入处理气 体，并且向所述第1电极和第2电极中的1个或2个供给高频电压， 生成等离子体，对所述平板显示器用基板施行指定的等离子体处理， 其特征在于：

所述第1电极，具有与所述第2电极相对，形成有将所述处理气 体向所述处理室内喷出的多个气体喷射孔的电极板，和支承所述电极 板的支承体，和形成在所述支承体和所述电极板之间，导入所述处理 气体的中空部，和将所述中空部分成中央室和周边室的环状分隔壁，

具有处理气体供给单元，和将来自所述处理气体供给单元的处理 气体2路分流的各分支管，和调整流过这些分支管的流量的流量调整 单元，和将来自所述各分支管的处理气体分别导入中央室和周边室的 管道，

所述各流量调整单元，具有所述各分支管上安装的开关阀和固定 节流阀，

连接所述中央室的分支管的流量调整单元具有旁通管，该旁通管 与所述开关阀和所述固定节流阀并列、具有与所述开关阀不同的其它 开关阀并且不通过所述固定节流阀。

7.如权利要求6所述的处理气体供给装置，其特征在于：

从所述各分支管向所述中央室和所述周边室导入处理气体的气体 导入孔的向所述中空部开口的排出口上设置有整流部件，以将排出到 所述中空部的气体的流向改变成水平方向。