[发明专利]荧光X射线分析装置

说明书

本发明是2004年3月11日申请的发明名称为“荧光X射线分析装置”的第200480002434.X号发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及测定波长不同的多条2次X射线的相应强度的波长分散型荧光X射线分析装置。

背景技术

近年，作为能够针对波长不同的多条2次X射线，比如，荧光X射线和其基底，波长不同的多条荧光X射线，以充分的分辨率测定相应的强度的波长分散型荧光X射线分析装置，包括有多元素同时荧光X射线分析装置、扫描型荧光X射线分析装置。在多元素同时荧光X射线分析装置中，由于针对要测定的每条2次X射线，设置检测器，故成本较高。另一方面，在扫描型荧光X射线分析装置中，通过所谓的测角器等的联动机构，按照改变通过分光元件分光的荧光X射线的波长，同时，该已进行了分光处理的荧光X射线射入检测器的方式，使分光元件和检测器联动，并对其进行扫描，由此，可通过单一的检测器，在较宽的波长范围内，测定2次X射线的相应强度，但是，由于要求复杂而高精度的联动机构，故成本很高。

与这些情况相对，包括JP特许第2685726号公报中描述的荧光X射线分析装置。在该装置中，通过单一的分光元件，对荧光X射线和其基底进行分光，焦点分别位于按照在单一的检测器之前邻接的方式设置的2个感光细缝，交替地打开这2个感光细缝，由此，不对分光元件和检测器进行联动扫描，测定相应的强度。于是，可简单地、低价格地构成，但是，由于仅仅采用1个已固定的弯曲分光元件，故如果不是象重元素的荧光X射线及其基底那样波长极接近的场合(两者的衍射角(所谓的2θ)的差值在1度以内这样的场合)，则无法测定相应强度。

于是，人们提出了JP特开平8-201320号公报中所描述的荧光X射线分析装置。在该装置中，采用分别相对应的2个弯曲分光元件，对荧光X射线及其基底进行分光，焦点分别位于按照在单一的检测器之前邻接的方式设置的2个感光细缝，交替地打开这2个感光细缝，由此，不连续地对分光元件和检测器进行扫描，测定相应的强度。于是，可简单、低价格地构成，即使在以氮等的超轻元素的荧光X射和其基底程度，波长不同的情况下，仍可测定相应的强度。

但是，在JP特开平8-201320号公报的装置中，虽然分光法采用通过弯曲分光元件对从试样产生而发散的2次X射线进行分光，并将其会聚的所谓的集中法，但是2个弯曲分光元件沿厚度方向并排地固定，由此，常常形成从试样和检测器看，外侧的弯曲分光元件的感光面的一部分进入内侧的弯曲分光元件的阴影的设置，无法以充分的灵敏度，测定通过外侧的弯曲分光元件分光的2次X射线的强度。如果外侧的弯曲分光元件充分地远离内侧的弯曲分光元件，则具有2次X射线的入射角过大，无法配备具有可对所需的波长的2次X射线进行分光的晶格面间距的弯曲分光元件的担心。

发明的公开

本发明是针对上述过去的问题而提出的，本发明的目的在于提供一种波长分散型荧光X射线分析装置，其为采用单一的检测器的简单的、低价格的结构，同时，在较宽的波长范围内，以充分的灵敏度测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

为了实现上述目的，本发明的第1方案的荧光X射线分析装置包括对试样照射1次X射线的X射线源；使从上述试样发生的2次X射线发散的发散细缝；对通过发散细缝发散的2次X射线进行分光、会聚的分光元件；测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器，上述分光元件采用多个弯曲分光元件，该多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看，2次X射线的光路扩展的方向并排地固定，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

在该第1方案的装置中，由于针对波长不同的多条2次X射线，采用分别相对应而固定的分光元件，不联动地使分光元件和检测器进行扫描，通过单一的检测器，测定相应强度，由此，可在形成简单、低价格的方案的同时，在较宽的波长范围内，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。另外，分光法采用上述集中法，但是，由于多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看，2次X射线的光路扩展的方向并排地固定，故未形成某个分光元件的感光面由另一分光元件覆盖这样的设置，可以充分的灵敏度测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

本发明的第2方案的荧光X射线分析装置包括对试样照射1次X射线的X射线源；使从上述试样发生的2次X射线平行的索勒细缝；对通过索勒细缝平行处理的2次X射线进行分光的分光元件；测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器，上述索勒细缝和分光元件采用从上述试样观看，呈辐射状并排地固定的多组索勒细缝和平板分光元件，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。