[发明专利]荧光X射线分析装置无效
| 申请号： | 200910132665.7 | 申请日： | 2004-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN101520423A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 河野久征;庄司孝;堂井真 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：
对试样照射1次X射线的X射线源；
对从试样发生的2次X射线进行分光的分光元件；
测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器；
上述分光元件采用单一的分光元件，设置使该分光元件有选择地移动到规定的多个位置的分光元件移动机构，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度；
上述规定的多个位置包括下述的多个位置，该多个位置分别与试样的间隔开的部位相对应，用于对相同的波长的2次X射线进行分光。
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