[发明专利]涂布方法和涂布装置无效

专利信息
申请号: 200910129582.2 申请日: 2009-03-31
公开(公告)号: CN101549337A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 篠原泰雄;渡边耕一郎 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: B05C5/00 分类号: B05C5/00;B05C11/02;B05C21/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 吴亦华;徐一琨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种涂布方法,其中涂布液被连续地从供料头供至连续移动的片状基材的表面以在所述表面上形成涂层,同时靠布置在所述片状基材上方的涂布棒控制涂层厚度,其中

用量对应于形成预定涂层厚度所需量的所述涂布液被连续且恒定地供至所述片状基材表面的大致中心部分,并使所述涂布棒按紧邻所述涂布棒所形成的涂布液滞留量的增加和减少而上移和下移,由此形成所述涂层。

2.根据权利要求1的涂布方法,其中滞留传感器沿所述片状基材的移动方向分别布置在所述供料头的近侧和后侧,以监控所述涂布液滞留量的增加和减少。

3.根据权利要求2的涂布方法,其中当所述滞留量超过所述布置在近侧的滞留传感器的阈值时,所述涂布棒上移,而当所述滞留量低于所述布置在后侧的滞留传感器的阈值时,所述涂布棒下移。

4.一种涂布装置,其中将涂布液连续地供至连续移动的片状基材的表面,以在所述表面上形成涂层,所述装置包括:

支撑所述连续移动的片状基材的支承辊;

与所述支承辊相对布置且使所述片状基材介于它们之间的涂布棒;

将所述涂布液连续且恒定地供至所述片状基材表面的大致中心部分的供料头;

在所述片状基材移动方向的两侧与所述涂布棒正交地布置以将所供涂布液作为滞留物保持的侧坝;

用来监控紧邻所述涂布棒形成的涂布液滞留量的增加和减少的滞留传感器;和

按所述滞留传感器所监测到的滞留量的增加和减少使所述涂布棒上移和下移的机构。

5.根据权利要求4的涂布装置,其中所述滞留传感器沿所述片状基材移动方向布置在所述供料头的近侧和后侧的每一侧上。

6.根据权利要求4的涂布装置,其中所述使所述涂布棒上移和下移的机构是包括销和使所述销水平移动的伺服电动机的间距调节装置。

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