[发明专利]溅射涂覆装置

权利要求书

1、一种溅射涂覆装置(1)包括：

至少一个包括壁的涂覆室(3)；和

设置在所述涂覆室(3)内的至少一个第一靶单元(9)，其中所述靶 单元(9)包括至少一个基本平面的溅射靶(6)，以及其中，

所述靶单元(9)包括限定出了所述靶单元(9)的内部空间(10’)的 壳体(10)，

其特征在于

所述靶单元(9)设置为与面对衬底(2)的涂覆表面的所述涂覆室 (3)的壁(3c)间具有距离，使得所述壳体(10)和所述涂覆室(3)的 壁之间在所述壳体(10)的后面具有自由空间。

2、根据权利要求1的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

相对于所述涂覆室(3)的内部，所述靶单元(9)的所述内部空间 (10’)是真空密闭的。

3、根据权利要求1或2的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述溅射涂覆装置(1)包括设置在所述靶单元(9)的所述内部空间 (10’)内的冷却系统和/或电流供应系统和/或冷却介质供应装置。

4、根据前述任一项权利要求的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述靶单元(9)设置为围绕旋转轴(A)相对于真空室(3)是可旋 转和/或可倾斜的。

5、根据前述任一项权利要求的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述涂覆装置(1)包括在面对所述靶(6)的位置上用于将所述衬底 (2)传送进和传送出所述涂覆室(3)和/或用于将所述衬底(2)传送 通过涂覆室(3)经过所述靶(6)的传送系统。

6、根据前述任一项权利要求的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述靶单元(9)包括用于在所述靶(6)的所述溅射表面上方产生磁 场的磁体装置(11)。

7、根据权利要求6的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述磁体装置(11)设置在所述靶单元(9)的所述内部空间(10’) 内。

8、根据前面权利要求6或7中任一项的溅射涂覆装置(1)，其特征 在于，

所述磁体装置(11)设置为相对于所述靶(6)是可移动的。

9、根据前述任一项权利要求中的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述涂覆装置(1)包括用于提供旋转运动的驱动机构、和用于将所 述旋转运动转化为基本线性运动的转换机构。

10、根据前述任一项权利要求的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述涂覆装置(1)包括托架，以在所述真空涂覆室(3)中支撑所述 靶单元(9)。

11、根据前述任一项权利要求的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

所述靶单元(9)设置为与面对衬底(2)的涂覆表面的所述涂覆室 (3)的壁(3c)间具有距离。

12、根据前述任一项权利要求中的溅射涂覆装置(1)，其特征在 于，

所述涂覆装置(1)包括用于在所述涂覆室(3)中产生真空的至少一 个泵(5)，所述泵(5)设置在所述涂覆室中所述靶单元(9)后的壁 上。

13、根据前述任一项权利要求中的溅射涂覆装置(1)，其特征在 于，

所述涂覆室(3)包括模块结构，该模块结构包括至少一个用于支撑 所述第一靶单元(9)的支撑体，和构成所述涂覆室(3)的一部分壁的盖 子(3c)。

14、根据前述任一项权利要求中的溅射涂覆装置(1)，其特征在 于，

所述涂覆装置(1)包括设置在所述涂覆室(3)内部的一个或多个第 二靶单元(9)。

15、根据前述任一项权利要求的溅射涂覆装置(1)，其特征在于，

包括在待涂覆的衬底(2)的传送路径在内，所述第一靶单元(9)和 所述一个或多个第二靶单元(9)设置成一直线。

16、根据前述权利要求13到16中任一项的溅射涂覆装置(1)，其 特征在于，

所述第一靶单元(9)和/或所述一个或多个第二靶单元分别由至少 一个支撑体(3b)支撑。