[发明专利]一种硅烷纯化剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910109955.X 申请日: 2009-10-29
公开(公告)号: CN102050451A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 安荣玲;丁显波;周勇 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: C01B33/039 分类号: C01B33/039;C01B33/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 硅烷 纯化 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及硅提纯技术领域,具体涉及一种硅烷纯化剂及其制备方法。

背景技术

高纯硅是一种非常重要的工业材料,主要用于太阳能电池、改进半导体管以及其他半导体元件领域。

随着产业的发展,高纯硅的需求量日益增加。但高纯硅的制备相当困难。硅中的硼、砷、磷等元素难以除去。特别杂质元素硼,在固体硅和液体硅中的溶解度一样,用传统的拉单晶和区域熔炼法很难将其含量控制的很低。

硅烷作为生产硅的重要原料,一般利用硅烷在高温下分解成硅和氢气来制备高纯硅。因为气体纯化相对固体纯化容易,所以只有提高原料硅烷的纯度,才能有效提高产物硅的纯度。硅烷气体中一般不可避免含有硼烷、砷烷、磷烷等杂质气体。一般采用硅烷纯化剂来清除硅烷气体中的砷烷、磷烷、硼烷。

目前,纯化剂有液体纯化剂和固体纯化剂。液体纯化剂一般为胺类及其惰性有机溶剂的溶液。但是纯化剂在纯化硅烷的同时会引入有机溶剂蒸汽,从而引进其他杂质,纯化效果不理想。固体吸附剂不引进杂质,纯化效果好,但是固体吸附剂在吸附杂质的同时也吸附大量的硅烷,导致硅烷纯化效率低,硅烷产率低,并且成本高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,现有技术中吸附剂的纯化效果差,纯化收率低。从而提供了一种纯化效果好,纯化收率高的硅烷纯化剂。

一种硅烷纯化剂,其包括载体、催化粒子;所述催化粒子负载载体上;其中,所述载体表面釉化处理。

本发明的第二根目的是提供了一种上述硅烷纯化剂的制备方法。

一种上述硅烷纯化剂的制备方法,包括如下步骤:

将载体放入浸泡液中浸泡,后取出烘干;然后将载体高温煅烧釉化,再氢气还原,最后惰性气氛下冷却;所述浸泡液包括釉化剂溶液、催化粒子盐溶液。

本发明所提供的硅烷纯化剂,纯化效果好,不会引进其它杂质,并且纯化收率高,硅烷损失少。并且该硅烷纯化剂的机械强度好。本发明所提供的制备方法简单易行。

具体实施方式

一种硅烷纯化剂,其包括载体、催化粒子;催化粒子负载载体上;其中,载体表面釉化处理。

其中,载体的作用是使催化粒子与气体更好的接触,提高纯化效果。载体为本领技术人员所公知的多孔物质。例如活性碳、天然沸石、合成分子筛、γ-Al2O3

本发明优选分子筛,更优选4A分子筛。

当使用分子筛作载体时,纯化剂的平均颗粒直径优选为2~6mm。

其中,催化粒子的作用是选择性吸附硅烷中杂质气体,一般为后过渡金属,例如铁、铂、铱、银、锇等。

本发明优选为铁、钴、铜、锌、镍中的一种或几种。

优选地,以纯化剂的总重量为基准,催化粒子占1~10wt%。

这样可以使纯化效率达到比较理想的效果。这是因为催化粒子较少,吸附容量少,会影响催化效果;当催化粒子过多,载体太少,会降低比表面积,也会降低催化效果。

表面釉化处理为本领域技术人员所公知的,其为使用釉化剂在载体表面形成釉化层,以改善载体的表面形态,使载体表面平滑化。

一种上述硅烷纯化剂的制备方法,包括如下步骤:

将载体放入浸泡液中浸泡,后取出烘干;然后将载体高温煅烧釉化,再氢气还原,最后惰性气氛下冷却;所述浸泡液包括釉化剂溶液、催化粒子盐溶液。

由于载体的颗粒尺寸与纯化剂的几乎没有区别,所以本发明优选载体的平均颗粒尺寸为2-6mm。

本发明的浸泡可以是一次浸泡同时吸附釉化剂、催化粒子盐,也可以分开两次浸泡分别吸附釉化剂、催化粒子盐。

一次浸泡是指将载体放入同时含釉化剂、催化粒子盐的浸泡液中浸泡,将釉化剂、催化粒子盐同时吸附到载体上。

两次浸泡是指先将载体在釉化剂溶液中浸泡,后在催化粒子盐溶液中浸泡;或者指先将载体在催化粒子盐溶液中浸泡,后在釉化剂溶液中浸泡。

本发明优选分开两次浸泡,可以避免釉化剂和催化粒子盐之间相互影响。

其中,催化粒子盐是提供后续可还原的催化粒子金属离子。本发明是指催化粒子的无机酸盐,可以是盐酸盐、硫酸盐、硝酸盐。本发明优选盐酸盐。

分开两次浸泡时,催化粒子盐溶液优选为乙醇溶液。因为乙醇溶液相对水溶液的吸附速度较快。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于比亚迪股份有限公司,未经比亚迪股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910109955.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top