[发明专利]一种La掺杂CeO2过渡层薄膜及其制备方法有效
| 申请号: | 200910088527.3 | 申请日: | 2009-07-03 |
| 公开(公告)号: | CN101624286A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
| 发明(设计)人: | 赵跃;索红莉;刘敏;叶帅;程艳玲;马麟;周美玲 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
| 主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C04B35/622 |
| 代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 沈 波 |
| 地址: | 100124*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 la 掺杂 ceo sub 过渡 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种La掺杂CeO2过渡层薄膜,过渡层薄膜由Ce1-xLaxO2复合氧化物 固溶体组成,其中,0.1≤x≤0.3,过渡层薄膜的厚度为30~250nm;
其特征在于,薄膜双轴取向生长,制备方法包括以下步骤:
1)前驱液的制备:将有机铈盐和乙酰丙酮镧,按铈离子与镧离子的摩 尔比为1-x∶x,其中,0.1≤x≤0.3,铈离子与镧离子的总浓度为0.1~ 1.0mol/L,溶解到正丙酸与甲醇的混合溶液或者正丙酸与乙酰丙酮的混合 溶液或者正丙酸、甲醇与乙酰丙酮的混合溶液中,得到前驱液,三种混合 溶液中正丙酸的体积百分含量均为70~100%,其中不包括100%;
2)前驱液的涂敷:将前驱液用旋涂或者浸涂的方式涂敷到金属基板或 单晶基板上,得到前驱膜;
3)高温烧结:在通保护气体的条件下,将前驱膜于950~1200℃烧结 15~120分钟,得到厚度为30~100nm的La掺杂CeO2过渡层薄膜;
4)重复步骤2)中的涂敷前驱液和步骤3)中的高温烧结操作0~4次, 得到厚度为30~250nm的La掺杂CeO2过渡层薄膜。
2.一种La掺杂CeO2过渡层薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)前驱液的制备:将有机铈盐和乙酰丙酮镧,按铈离子与镧离子的摩 尔比为1-x∶x,其中,0.1≤x≤0.3,铈离子与镧离子的总浓度为0.1~ 1.0m0l/L,溶解到正丙酸与甲醇的混合溶液或者正丙酸与乙酰丙酮的混合 溶液或者正丙酸、甲醇与乙酰丙酮的混合溶液中,得到前驱液,三种混合 溶液中正丙酸的体积百分含量均为70~100%,其中不包括100%;
2)前驱液的涂敷:将前驱液用旋涂或者浸涂的方式涂敷到金属基板或 单晶基板上,得到前驱膜;
3)高温烧结:在通保护气体的条件下,将前驱膜于950~1200℃烧结 15~120分钟,得到厚度为30~100nm的La掺杂CeO2过渡层薄膜;
4)重复步骤2)中的涂敷前驱液和步骤3)中的高温烧结操作0~4次, 得到厚度为30~250nm的La掺杂CeO2过渡层薄膜。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤1)中所述的有机铈盐 为乙酰丙酮铈或醋酸铈。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤2)中采用旋涂方式将 前驱液涂覆到金属基板或者单晶基板上时,旋转涂敷的转数为2000~5000 rpm之间,旋涂时间为30~120秒。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤2)中采用浸涂方式将 前驱液涂覆到金属基板或者单晶基板上时,将金属基板或者单晶基板垂直 提拉出前驱液中的速度为10~150毫米/分钟。
6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤3)中所述的保护气体 为H2气,N2气或Ar气的一种或几种的混合。
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