[发明专利]一种X光管阳极靶及其制备方法与应用的X光管

权利要求书

1.一种X光管阳极靶，其特征在于，所述阳极靶的表面具有多个微米尺度锯齿状沟槽，且所述锯齿状沟槽的方向正对X光管的出射口，所述锯齿状沟槽的锯齿夹角为10-90度，深度为10-60微米。

2.一种X光管阳极靶的制备方法，其特征在于，在X光管阳极靶上加工多个方向正对X光管出射口的锯齿状沟槽，所述锯齿状沟槽的锯齿夹角10-90度，沟槽深度为10-60微米。

3.如权利要求2所述X光管阳极靶的制备方法，其特征在于，所述加工的方法为等离子束轰击或化学侵蚀。

4.如权利要求2或3所述X光管阳极靶的制备方法，其特征在于，所述制备方法中阳极靶的多锯齿状沟槽结构适用于X射线发生器中的固定靶、旋转靶和次级靶。

5.一种应用如权利要求1所述阳极靶的X光管，包括电子束发生装置，用于产生高能电子束轰击阳极靶，其特征在于，所述阳极靶的表面具有多个锯齿状沟槽，且所述锯齿状沟槽的方向正对X光管的出射窗口；所述高能电子束轰击阳极靶时，通过出射的次级电子与邻近的阳极锯齿沟槽多次发生相互作用而产生X射线。

6.如权利要求5所述的X光管，其特征在于，所述锯齿状沟槽的锯齿夹角为10-90度，深度为10-60微米。